Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS+ #9029478 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS + Reaktor ist ein Hochleistungs-Ätz- und Abscheidungsgerät, das zur Herstellung hochwertiger Halbleiterbauelemente entwickelt wurde. AMAT Centura II DPS + bietet erweiterte Ätz- und Abscheidefunktionen und eignet sich für die Herstellung von integrierten Schaltungen wie CPUs, GPUs und Speichergeräten. Es ist für den Einsatz in fortschrittlichen Fertigungsprozessen wie Ein- und Mehrfach-Ätzen, PECVD, Sputtern, PVD, ALD und CVD optimiert und kann in einer Vielzahl von Anwendungen zur Herstellung integrierter Schaltungen eingesetzt werden. Das System ist für einen hohen Durchsatz ausgelegt und kann bis zu drei Bearbeitungskammern aufnehmen. Es ist für eine breite Palette von Prozessgasen ausgelegt, einschließlich N2, O2, NF3, CF4, SF6 und Ar. Sein Wafer-Suszeptor ermöglicht auch eine hohe Waferzählung bei bis zu 150mm oder 200mm. Darüber hinaus bietet APPLIED MATERIALS Centura II DPS + ein breites Prozessfenster mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit über das Substrat und kann in herkömmliche Ätzprozesse wie ICP, RIE und Multi-Wafer-Ätzprozesse integriert werden, um die Prozesssteuerung zu verbessern. Centura II DPS + nutzt eine Druck-Servo-Steuerungsplattform, um das Wärmemanagement zu gewährleisten, und diese Funktion beseitigt Temperaturstörungen, die in anderen Systemen auftreten können. Der Reaktor nutzt eine proprietäre Hot-Zone-Technologie, um die Zündverzögerung zu reduzieren, und ist mit einer eingebauten Ventilsteuerung ausgestattet, die eine effiziente Wafer-Vorreinigung gewährleistet. Der Reaktor besteht aus optischen Zellen und aktiver Kühlung, die ein verbessertes Leistungsmanagement für den Hochleistungsbetrieb der Maschine ermöglichen. Darüber hinaus ist AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS + für eine einfache Wartung ausgelegt, da sich alle Verbrauchsmaterialien und Ersatzteile auf der Vorderseite des Reaktors befinden. Schließlich ist AMAT Centura II DPS + mit einem benutzerfreundlichen AMAT Osmic™ Softwarepaket zur Überwachung und Steuerung der Arbeitsabläufe des Tools ausgestattet. Die Software ermöglicht es den Betreibern, die Einstellungen und Parameter des Assets anzupassen und Probleme effizient zu beheben. Das Modell bietet eine solide Out-of-the-Box-Leistung mit zuverlässigen und wiederholbaren Ergebnissen auch bei minimalen Bedienereinstellungen. Zudem sorgt es mit seinem eingebauten automatischen Reinigungsablauf für einen zuverlässigen Kammerreinigungsprozess. Zusammengefasst ist APPLIED MATERIALS Centura II DPS + ein leistungsstarker und zuverlässiger Reaktor, der eine hocheffiziente Produktion von Halbleiterbauelementen ermöglicht.