Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS+ #9174726 zu verkaufen

AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS + ist eine Oxid-Dotierungsquelle zur Herstellung integrierter Schaltungen. Es ist ein einzelner Wafer vertikale hochdichte Plasma (HDPCVD) reacto, die eine Vielzahl von Oxid-Dotierstoffen produzieren kann. Sie ist in der Lage, sowohl p-Dotierstoffe, wie Bor, als auch n-Dotierstoffe, wie Phosphor, zu verarbeiten. Dieser Reaktor eignet sich gut für Anwendungen, die ein extrem konsistentes Dotierungsprofil erfordern. AMAT Centura II DPS + verwendet eine radikale, einzigartige Sigma-Net-Steuerung, die ihre Waferbearbeitungsparameter dynamisch und autonom für optimale Ergebnisse konfiguriert. Dieses System verfügt auch über eine Acht-Gas-Zufuhr- und Evakuierungseinheit, die eine unabhängige Kontrolle über Quellreaktanten ermöglicht und hochgradig kundenspezifische Dotierungsprofile ermöglicht. Es umfasst eine vertikale, mehrzonige motorisierte Strecke, die die Arbeitsablaufeffizienz verbessert, eine vertikale Gasverteilungsmaschine für die Gleichmäßigkeit der Gasverteilung und ein verbessertes Softwarepaket für die Neukonfiguration und Datenerfassung. Der Reaktor ist außerdem für eine präzise Abscheideregulierung und gleichmäßige Dotierung mit einem mehrzonigen, variablen Elektrowerkzeug mit AC-Plasma ausgelegt. Das Power Delivery Asset wurde entwickelt, um die Leistung sofort an jede Zone anzupassen und so einen stark wiederholbaren Produktionsprozess zu ermöglichen. Der Reaktor verfügt auch über ein Temperaturmanagementmodell für genaue Ergebnisse, mit beheizten Düsen und einem eingebetteten Temperatursensor, der eine hochpräzise Kontrolle des Abscheide- und Diffusionsprozesses ermöglicht. Der Reaktor bietet darüber hinaus eine präzise Dicken- und Gleichmäßigkeitskontrolle mit einer Mehrzonen-Doppelfilterausrüstung, auf die über einen bordeigenen UV-Ozon-Analysator zugegriffen wird. Dieses System hilft, die Reinheit der Reaktionspartner zu überwachen und zeigt unreife Partikel, die Verunreinigungen verursachen können. Es verfügt auch über eine Selbstausrichtungseinheit für genaue Waferorientierung und uni-direktionales erhitztes Trägergas für eine bessere Gleichmäßigkeit. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura II DPS + hat eine breite Palette von Sicherheitsmerkmalen, einschließlich eines Vakuumschlosses zur vollständigen Eindämmung innerhalb der Reaktorkammer und antireflektierende Beschichtungen auf der Optik innerhalb der Strahlungskammer. Es verfügt auch über eine sichere Fernüberwachungsmaschine, um den Status des Werkzeugs in Echtzeit zu beobachten, und ein Protokollierungsobjekt, um den Prozessverlauf und die Daten zu verfolgen. Für maximale Betriebszeit und Kosteneinsparungen ist das Modell so konzipiert, dass es mit optimaler Effizienz läuft, wenn mehrere Wafer geladen werden. Mit all diesen Eigenschaften ist APPLIED MATERIALS/Centura II DPS + eine zuverlässige und effiziente Oxid-Dotierungsquelle für die Herstellung integrierter Schaltungen, die ein hochkonsistentes Dotierungsprofil erfordert.