Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS+ #9202744 zu verkaufen

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ID: 9202744
Wafergröße: 8"
Metal etcher, 8" (4) Chambers Chamber type: Loadlock: Wide Robot: VHP+ Position A / B: Metal DPS+ Position C / D: ASP+ Position E: Fast cool down Position F: Orienter Chamber A and B: Process: DPS+ Upper chamber body: Anodizing Electrostatic chuck: Polyamide SEIKO SEIKI STPH 1303C Turbo pump DTCU: E-EDTU Endpoint: Monochromator Bias generator: OEM 12B (-08) Bias match: 0010-36408 ENI GMW-25A Source generator, 2500 W Throttle valve / Gate valve: VAT TGV Chamber C and D: Process kit: Chuck Auto tuner: Smart match 3750-01106 MAGNETRON Head: 0190-09769 ASTEX AX2115 Generator Process control: Manometer Gas box: VDS Type: 750 SCCM IHC Module: MKS 649 Transfer chamber: Manual lid hoist Robot: VHP+ Umbilical cable: 55 Feet 2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS + ist ein hochentwickeltes Plasmabearbeitungssystem für die Produktion. Dieser Mehrkammer-, Dreistationsreaktor bietet maximale Eigenschaften in einem kompakten Gesamtpaket für Abscheide-, Ätz- und Quellkammer-Fähigkeiten. Der AMAT Centura II DPS + Reaktor ist für eine kostengünstige Produktivität und Gleichmäßigkeit optimiert und bietet eine verbesserte Durchsatz- und Prozesssteuerung. Die EMS-Kammer von APPLIED MATERIALS Centura II DPS + ist für die epitaktische Halbleiterabscheidung auf verschiedenen Substraten ausgelegt. Es wird in einer Vielzahl von Anwendungen wie Silizium-Germanium, GaN, Diamant und Kohlenstoff-Nanoröhren verwendet. Der Reaktor enthält einen Wide Energy Bandbreite Tiegel, der hohe Abscheidungsraten und außergewöhnliche Gleichmäßigkeit bietet. Darüber hinaus ermöglicht die integrierte Auto-Scan-Funktion es Benutzern, maximal fünf Rezepte zu programmieren. Die EOS-Kammer von Centura II DPS + ist ein sehr vielseitiges Ätzsystem. Es unterstützt nasse, trockene und hybride Verarbeitungstechnologien, einschließlich des Ätzens von Metallen und Halbleitern. Die Kammer ist mit einer Präzisionssteuerung mehrerer Ätzparameter wie Leistung, Druck, Temperatur und Durchfluss ausgestattet. Das System wurde entwickelt, um die Flexibilität und Gleichmäßigkeit der Prozesse zu maximieren und verschiedene Substrate und Substratgrößen zu ermöglichen. Schließlich bietet die Quellkammer von AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS + eine zuverlässige Quelle für Abscheidungsvorstufen. Es ist mit einer Hochleistungsdrehklappe ausgestattet, die für die Handhabung einer Vielzahl von verdampften Materialien ausgelegt ist. Die Kammer weist außerdem eine schnelle Reaktivierungsrate bei sehr niedrigem dynamischen Druck auf. Diese Funktionen tragen zu einer drastisch verbesserten Prozessstabilität bei. Insgesamt ist der AMAT Centura II DPS + Reaktor ein zuverlässiges und leistungsstarkes Werkzeug, ideal für den Produktionseinsatz. Mit seinem leistungsstarken Mehrkammer- und Drei-Stationen-Design können Anwender von verbesserter Wärme- und Kammereinheitlichkeit und maximalem Durchsatz profitieren. Der Reaktor ist in der Lage, verschiedene Abscheide-, Ätz- und Quellprozesse mit Präzisionssteuerung mehrerer Parameter zu handhaben, was ihn zu einer optimalen Wahl für Fertigungsanforderungen macht.
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