Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS+ #9358593 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS + ist ein vielseitiger tiefer ultravioletter (DUV) Photoresist-Verarbeitungsreaktor für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es ist in der Lage, mehrere Photolackschichten gleichzeitig mit sehr hoher Präzision und Durchsatz zu verarbeiten. Der Reaktor verfügt über eine fortschrittliche Wafer-Handling-Automatisierung, die es ihm ermöglicht, die immer strengeren Produktionsanforderungen an Low-k1- und Low-Dk-Photoresists zu erfüllen. Die Quelle der DUV-Strahlung ist eine 350W Deuteriumlampe und ein Reflektor. Der Reflektor wurde entwickelt, um die Dosis der DUV-Strahlung zu optimieren, die mit einem Single-Mode-Strahl erzeugt wird. Die Strahlung wird auf die im Suszeptor des Reaktors aufgehaltenen Probenscheiben gerichtet. Der Suszeptor wird durch die Lampe auf eine gleichmäßige Temperatur erhitzt und die Temperatur dann entsprechend den bei der Verarbeitung verwendeten Photoresists eingestellt. Der Reaktor verfügt zudem über einen fortschrittlichen Wafer-Handling-Mechanismus mit einem dreistufigen Spannsystem, das eine hohe Prozessgleichförmigkeit gewährleistet. Dieses System enthält auch ein Vakuumfutter für einfaches Be- und Entladen. Der Reaktor verfügt über drei unabhängige elektrostatische Klemmen, die die Probe halten, um reproduzierbare und wiederholbare Prozesse zu gewährleisten. Der Reaktor verfügt über ein reaktives Gasfördersystem mit Drücken bis 100 mTorr, das eine niedrige k1- und niedrige Dk-Bestrahlung ermöglicht. Der Reaktor verfügt zudem über ein geringes thermisches Budget, das die Gleichmäßigkeit und den Durchsatz verbessert. Es ist mit einem Temperaturregler ausgestattet, der den Suszeptor auf ± 1 ° C reguliert. Die Suszeptor-Temperatur wird über ein eingebautes thermisches Array gemessen. Außerdem weist der Reaktor eine Reinigungsstation auf, die routinemäßig dazu dient, den Reaktor nach jedem Verfahren von Verunreinigungen zu spülen. AMAT Centura II DPS + ist eine ideale Wahl für alle qualitativ hochwertigen und präzisen Anforderungen an die Verarbeitung von Fotolacken. Es eignet sich gut für den Einsatz in komplexen Prozessen, wie der Herstellung von Low-k1- und Low-Dk-Materialien. Als solches ist es eine ausgezeichnete Wahl für die Forschung und Herstellung von hochmodernen Halbleiterbauelementen.