Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II #9130163 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II Reaktor ist ein Werkzeug zur Verarbeitung von Halbleiterscheiben. Dieser Reaktor ist eine fortschrittliche Hochdurchsatz-, kosteneffiziente Plasmaätz- und Abscheidungsanlage, die die Produktion einer Vielzahl von Technologien unterstützt. Mit modernster Automatisierung verfügt der AMAT Centura II Reaktor über die Fähigkeit, Serienfertigungen zu bearbeiten und eine Vielzahl von Aufgaben mit hoher Qualität, Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit zu bearbeiten. Die Maschine besteht aus einer zentralen Prozesskammer, die mit einer Lastschloßkammer und einer Plasmaquelle verbunden ist. Angewandte Materialien CENTURA-II Reaktor verwendet Hochfrequenz (HF) Plasma-Technologie und kann zum Ätzen und Abscheiden von organischen und anorganischen Materialien verwendet werden. Die Kammertemperatur und der Druck können präzise gesteuert werden und der Innendruck kann zwischen 10 mTorr und 10 Torr liegen, während die Temperatur zwischen 4˚C und 50˚C liegen kann. Das Werkzeug verwendet eine Reihe integrierter Prozessquellen, die in der Lage sind, die Prozessgasströme, den Druck, die HF-Leistung und die Magnetfeldkonfigurationen zu steuern. Der CENTURA-II-Reaktor ist mit einem Gridless Internal Electrode (GIE) -System ausgestattet, das aus zwei konzentrischen dreieckigen Elektroden und zwei konzentrischen Ringen besteht. Die Ringe bieten gleichmäßige elektrische Felder für verbesserte Wafer-Gleichmäßigkeit und schnellere Prozessgeschwindigkeiten. Diese Einheit reduziert auch die Wartungskosten, da kein Netzaustausch erforderlich ist. Der Centura II-Reaktor verfügt über eine Sub-Atmospheric Process (SAP) -Maschine, die schnellere Ätzgeschwindigkeiten, niedrige elektrische Arbeitszyklen mit einem Wafer, geringe Gasströme und minimale Verschmutzung ermöglicht. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA-II Reaktor bietet hochpräzise Leistung, mit einer Liefergenauigkeit Genauigkeit von +/- 0,005 Zoll, qualitativ hochwertige Prozessergebnisse mit niedrigen Partikelzahlen, Gleichmäßigkeit und verbesserte Waferausbeute. Der Reaktor ist auch mit einer Reihe von fortschrittlichen Überwachungs- und Automatisierungssoftware zur Verfügung, die es den Benutzern ermöglicht, die Einrichtung an ihre spezifischen Anforderungen anzupassen. Die überlegene Leistung und Flexibilität des EINSATZMATERIALIEN Centura II Reaktors machen ihn zum idealen Ätz- und Abscheidungswerkzeug für Produktion und Prozess in der Halbleiterindustrie. Es eignet sich gut für kostengünstige und komplexe Bearbeitungsaufgaben mit Präzision und Wiederholbarkeit.