Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura IPS #293829876 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura IPS (Integrated Process System) ist ein fortschrittliches Sputtersystem für die Abscheidung von dünnen Filmen zur Verwendung in der Halbleiterherstellung. Es ist eine vollständig integrierte Plattform, die die gleichzeitige Abscheidung mehrerer Schichten von Materialien auf Substraten in einem einzigen Lauf ermöglicht. Das IPS bietet eine einfach zu bedienende Plattform für eine zuverlässige und genaue Abscheidung. Das einzigartigste Merkmal des IPS ist seine patentierte Sputter-Etch-Technologie. Diese Technologie ermöglicht die Schichtabscheidung und Ätzreinigung in einem einzigen Schritt, wodurch die Produktionszeiten reduziert und die Effizienz erhöht wird. Dies verbessert den Durchsatz und erhöht die Ausbeute. Darüber hinaus ist das IPS in der Lage, komplexe Schichtstrukturen zu schaffen, wie Kupfer-Silber-Gold, die für ultra-low-k dielektrische Materialien kritisch sind. Das IPS verfügt auch über eine Vielzahl von erweiterten Prozesssteuerungsfunktionen. Seine Closed Loop RF Power Control (CLRPC) ermöglicht eine präzise Leistungspegelregelung für jedes seiner Ziele und eine präzise Magnetfeldsteuerung, um die Parität zwischen Abscheidungsrate, Ätzrate und ionisierter reaktiver Artbildung aufrechtzuerhalten. Dadurch werden unkontrollierte Variationen reduziert und ein höheres Maß an Produktintegrität und Wiederholbarkeit beibehalten. Das IPS bietet auch schnelle Umschaltmöglichkeiten, um rezeptgesteuerte Prozessbedingungen für erhebliche Kosteneinsparungen und Skalierbarkeit bereitzustellen. Die automatisierten und einheitlichen Rezepte rationalisieren den Prozess weiter und reduzieren Prozesszeit und Schrottausbeute. Der IDP-Antrieb kann auch an die Übertragung, Ausrichtung und Positionierung mehrerer Technologien angepasst werden, ohne dass ein manueller Eingriff erforderlich ist. AMAT Centura IPS ist ein All-in-One-Tool zur zuverlässigen Abscheidung komplexer Dünnschichtstrukturen mit integrierten erweiterten Prozesssteuerungsfunktionen, automatisierter Prozessatmosphärensteuerung und verbesserten Datenerfassungs- und Verarbeitungsfunktionen. Das IPS sorgt für schnelle Rüstwechsel und Taktzeiten und bietet eine möglichst reibungslose Wafer- zu Wafer-Prozesssteuerung. Dies macht es zu einer idealen Lösung für die Abscheidung von Ultra-Low-K-Dielektrika und anderen Bauelementen in der Halbleiterherstellung.