Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MCVD #293595634 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA MCVD (Metalorganic Chemische Dampfabsetzung) Reaktor ist ein fortgeschrittenes Hochleistungsabsetzungssystem für das Wachstum von epitaxialen Schichten in Halbleitergerätfertigungsverfahren. Das System wurde entwickelt, um überlegene Einheitlichkeit und Folieneigenschaften zu bieten, was eine höhere Geräteeinheitlichkeit und verbesserte Leistung ermöglicht. AMAT Centura MCVD Reaktor verfügt über ein modernes, vielseitiges Design. Es ist mit einem steuerbaren Gasfördersystem ausgestattet, das eine präzise Gasverteilung und -steuerung ermöglicht. Dadurch wird sichergestellt, daß die gewünschten Gase gleichmäßig im gesamten Reaktorraum zugeführt werden. Dieses Merkmal ermöglicht auch eine bessere Kontrolle der Kammeratmosphäre und Substrattemperatur, was zu höherer Qualität und gleichmäßigerer Abscheidung führt. Der Reaktor ist darauf ausgelegt, auch bei der Verarbeitung verschiedener Substrate konsistente und wiederholbare Abscheidungsergebnisse zu erzielen. Dies wird durch das einzigartige MCVD-Abscheidungsverfahren ermöglicht, das die wünschenswerten Eigenschaften der chemischen Dampfabscheidung (CVD) und der metallorganischen chemischen Dampfabscheidung (MOCVD) vereint. Sie beginnt mit der Abscheidung einer konformen Molekülschicht aus einem entsprechenden Material auf dem Substrat. Diese Molekülschicht dient als Schablone für weitere Abscheidungsprozesse, da zusätzliche Schichten chemisch mit der ersten Schicht zu höheren Schichtabscheidungen reagieren. Dies ermöglicht das Wachstum von mehrschichtigen Materialien zuverlässiger Dicke und Gleichmäßigkeit mit verbesserten Oberflächenmorphologien. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura MCVD Reaktor hat mehrere deutliche Vorteile im Vergleich zu anderen Abscheidungssystemen. Es hat eine hohe Abscheiderate, die schnellere Verarbeitungszeiten ermöglicht. Durch die Vielzahl der Gasförderquellen gibt es zudem keine Totzonen innerhalb der Wand der Reaktionskammer. Dies führt zu mehr Gleichmäßigkeit während des gesamten Schichtabscheidungsprozesses. Das MCVD-Verfahren ist zudem äußerst energieeffizient, was zu Kosteneinsparungen gegenüber anderen Abscheidungssystemen führt. Centura MCVD Reaktor ist das ideale Werkzeug für die Abscheidung von mehrschichtigen Materialien. Es liefert zuverlässige, einheitliche und qualitativ hochwertige Abscheidungsergebnisse und ist ein wesentliches Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen von heute.