Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ #9115015 zu verkaufen

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ID: 9115015
Poly etcher, 8" Wafer shape: JMF flat 208 V, 400A, 60 Hz Centura type: Centura 1 No SMIF interface Chamber A: MXP+ Chamber B: MXP+ Chamber C: MXP+ Chamber D: Empty Chamber E: Empty Chamber F: Orient Buff robot type: HP, metal blade Narrow body loadlock Standard Wafer sensor Water detector alarm Smoke detector alarm Monitor & EDP monitor: Wall mount AC Rack types: Phase 1 AC Rack MF Facilities: Bottom EMO's: Turn to release Control rack type: Phase 1 controller Chamber A: MXP+ Polymide ESC MKS640 IHC 1 Torr manometer Quick release lid Vitron slit valve o-ring Standard bias RF match OEM 12B RF gen bias No Autobias Monochrometer endpoint system ENDP30 endpoint software SEIKO SEIKI 301 turbo pump Magnet driver full installed Chamber pump not included Simply cathode type Butterfly throttle valve Vat gate valve Process kit not included Gas 1: CF4, 100, STEC SEC-4400MC Gas 2: CHF3, 300, STEC SEC-4400MC Gas 3: O2, 50, STEC SEC-4400MC Gas 4: O2, 200, STEC SEC-4400MC Gas 5: AR, 100, STEC SEC-4400MC Gas 6: N2, 100, STEC SEC-4400MC Chamber B: MXP+ Polymide ESC MKS640 IHC 1 Torr manometer Quick release lid Vitron slit valve o-ring Standard bias RF match OEM 12B RF gen bias No Autobias Monochrometer endpoint system ENDP30 endpoint software SEIKO SEIKI 301 turbo pump Magnet driver full installed Chamber pump not included Simply cathode type Butterfly throttle valve Vat gate valve Process kit not included Gas 1: CF4, 100, STEC SEC-4400MC Gas 2: CHF3, 300, STEC SEC-4400MC Gas 3: O2, 50, STEC SEC-4400MC Gas 4: O2, 200, STEC SEC-4400MC Gas 5: AR, 100, STEC SEC-4400MC Gas 6: N2, 100, STEC SEC-4400MC Chamber C: MXP+ Polymide ESC MKS640 IHC 1 Torr manometer Quick release lid Vitron slit valve o-ring High efficiency bias RF match OEM 12B RF gen bias No Autobias Monochrometer endpoint system ENDP30 endpoint software SEIKO SEIKI 301 turbo pump Magnet driver full installed Chamber pump not included Simply cathode type Butterfly throttle valve Vat gate valve Process kit not included Gas 1: CF4, 100, STEC SEC-4400MC Gas 2: CHF3, 300, STEC SEC-4400MC Gas 3: O2, 50, STEC SEC-4400MC Gas 4: O2, 200, STEC SEC-4400MC Gas 5: AR, 100, STEC SEC-4400MC Gas 6: N2, 100, STEC SEC-4400MC Gas delivery options: MFC maker: STEC Transducer displays: core tool MOTT filter Regulator: core tool Transducer: core tool Valve: core tool Gas connection: Sing line drop Gas line feed side: AC side Gas line feed direction: bottom Exhaust: Top Exhaust feed side: BD side Chiller: Heat exchanger for cathode: ETC Heat exchanger for wall: ETC (2) Total chiller W/ RS-485 interface Chiller valve connections: Manifold Generator rack valve connection: Manifold Valve connections: 1 each for wall and cathode per chamber (A, B, C) Chiller hose size: 3/8 Quick.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP + ist ein fortschrittlicher Halbleiterreaktor, der für Dual-Metall-Ätz- und Ionenimplantationsanwendungen konzipiert ist. Es verfügt über eine integrierte Vakuumausrüstung, ein chemisches Vorkonditionierungssystem und erweiterte digitale Controller und Programmierfunktionen, die den Benutzern die Flexibilität geben, ihre Prozessrezepte für verschiedene Anwendungen anzupassen. Das Gerät verwendet eine mehrzonige, reaktive Gasverteilungsmaschine, die eine gleichmäßige Zufuhr von reaktiven Gasen und eine gute Steuerung des Prozesses ermöglicht. Darüber hinaus umfasst das Tool einen einzigartigen Satz von abnehmbaren Kammern, die die Möglichkeit bieten, Prozesse anzupassen. Das Hauptmerkmal, das AMAT Centura MxP + von anderen Reaktoren unterscheidet, ist seine fortschrittliche reaktive Gasverteilung mit mehreren Zonen. Dieses Modell ermöglicht eine gleichmäßige Abgabe reaktiver Gase, die eine präzise Steuerung des Prozesses ermöglicht. Die mehrzonige Gasverteilereinrichtung wird durch einen an mehrere Gasleitungen angeschlossenen Satz von Hochdruckdüsen erleichtert, die die in die Reaktionskammer abzulassenden Gase signalisieren. Die Gase können dann für gewünschte Effekte gemischt werden, so dass ein Benutzer ihren Prozess für optimale Ergebnisse anpassen. Die Düsen sind aus Hochleistungsmaterialien aufgebaut, was eine lange Lebensdauer gewährleistet. ANGEWANDTE MATERIALIEN Das Centura MxP + System umfasst auch einen einzigartigen Satz abnehmbarer Kammern, wodurch Benutzer Prozesse anpassen oder neue Parameter erkunden können. Darüber hinaus bietet der digitale Regler des Reaktors erstklassige Präzisions- und Programmierfunktionen. Die fortschrittliche digitale Steuerung verwendet eine Reihe von Sensoren und Rückkopplungspunkten, um die Parameter der Kammer während des gesamten Prozesses zu überwachen und zu steuern, was zu einem detaillierteren und genaueren Prozess führt als mit manueller Steuerung. Die integrierte Vakuumeinheit auf Centura MxP + sorgt für einen stabilen und zuverlässigen Vakuumdruck, um eine präzise und konsistente Reaktion innerhalb der Kammer aufrechtzuerhalten. Diese integrierte Maschine verwendet auch ein separates Spülwerkzeug, um eventuelle Restgase in der Kammer zu eliminieren. Darüber hinaus nutzt die Anlage ein chemisches Vorkonditionierungsmodell, das die Einführung von frischen reaktiven Gasen mit jeder Charge ermöglicht. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP + wird entwickelt und hergestellt, um die höchsten Standards für Qualität und Leistung zu erfüllen. Es ist aus hochwertigen Materialien wie Edelstahl und Aluminium gebaut, so dass es robust und langlebig ist. Darüber hinaus wurde die Ausrüstung so konzipiert, dass sie einfach gewartet und gewartet werden kann und den Benutzern eine einfache und kostengünstige Möglichkeit bietet, ihre Systeme in Top-Zustand zu halten. AMAT Centura MxP + ist ein fortschrittlicher, mehrzoniger, digitaler Controller-fähiger Reaktor, der für Dual-Metall-Ätz- und Ionenimplantationsanwendungen konzipiert ist. Das integrierte Vakuum, die chemische Vorkonditionierung und die Gasverteilung ermöglichen eine präzise und einheitliche Prozesssteuerung und -anpassung. Darüber hinaus bieten seine abnehmbaren Kammern und digitalen Programmierfunktionen Benutzern die Möglichkeit, ihre Prozessrezepte an ihre Bedürfnisse anzupassen. Aufgrund seiner hochwertigen Konstruktion und fortschrittlichen Eigenschaften ist APPLIED MATERIALS Centura MxP + eine ausgezeichnete Wahl für Wissenschaftler und Ingenieure, die zuverlässige und präzise Ergebnisse benötigen.
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