Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ #9115015 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9115015
Poly etcher, 8"
Wafer shape: JMF flat
208 V, 400A, 60 Hz
Centura type: Centura 1
No SMIF interface
Chamber A: MXP+
Chamber B: MXP+
Chamber C: MXP+
Chamber D: Empty
Chamber E: Empty
Chamber F: Orient
Buff robot type: HP, metal blade
Narrow body loadlock
Standard Wafer sensor
Water detector alarm
Smoke detector alarm
Monitor & EDP monitor: Wall mount
AC Rack types: Phase 1 AC Rack
MF Facilities: Bottom
EMO's: Turn to release
Control rack type: Phase 1 controller
Chamber A: MXP+
Polymide ESC
MKS640 IHC
1 Torr manometer
Quick release lid
Vitron slit valve o-ring
Standard bias RF match
OEM 12B RF gen bias
No Autobias
Monochrometer endpoint system
ENDP30 endpoint software
SEIKO SEIKI 301 turbo pump
Magnet driver full installed
Chamber pump not included
Simply cathode type
Butterfly throttle valve
Vat gate valve
Process kit not included
Gas 1: CF4, 100, STEC SEC-4400MC
Gas 2: CHF3, 300, STEC SEC-4400MC
Gas 3: O2, 50, STEC SEC-4400MC
Gas 4: O2, 200, STEC SEC-4400MC
Gas 5: AR, 100, STEC SEC-4400MC
Gas 6: N2, 100, STEC SEC-4400MC
Chamber B: MXP+
Polymide ESC
MKS640 IHC
1 Torr manometer
Quick release lid
Vitron slit valve o-ring
Standard bias RF match
OEM 12B RF gen bias
No Autobias
Monochrometer endpoint system
ENDP30 endpoint software
SEIKO SEIKI 301 turbo pump
Magnet driver full installed
Chamber pump not included
Simply cathode type
Butterfly throttle valve
Vat gate valve
Process kit not included
Gas 1: CF4, 100, STEC SEC-4400MC
Gas 2: CHF3, 300, STEC SEC-4400MC
Gas 3: O2, 50, STEC SEC-4400MC
Gas 4: O2, 200, STEC SEC-4400MC
Gas 5: AR, 100, STEC SEC-4400MC
Gas 6: N2, 100, STEC SEC-4400MC
Chamber C: MXP+
Polymide ESC
MKS640 IHC
1 Torr manometer
Quick release lid
Vitron slit valve o-ring
High efficiency bias RF match
OEM 12B RF gen bias
No Autobias
Monochrometer endpoint system
ENDP30 endpoint software
SEIKO SEIKI 301 turbo pump
Magnet driver full installed
Chamber pump not included
Simply cathode type
Butterfly throttle valve
Vat gate valve
Process kit not included
Gas 1: CF4, 100, STEC SEC-4400MC
Gas 2: CHF3, 300, STEC SEC-4400MC
Gas 3: O2, 50, STEC SEC-4400MC
Gas 4: O2, 200, STEC SEC-4400MC
Gas 5: AR, 100, STEC SEC-4400MC
Gas 6: N2, 100, STEC SEC-4400MC
Gas delivery options:
MFC maker: STEC
Transducer displays: core tool
MOTT filter
Regulator: core tool
Transducer: core tool
Valve: core tool
Gas connection: Sing line drop
Gas line feed side: AC side
Gas line feed direction: bottom
Exhaust: Top
Exhaust feed side: BD side
Chiller:
Heat exchanger for cathode: ETC
Heat exchanger for wall: ETC
(2) Total chiller
W/ RS-485 interface
Chiller valve connections: Manifold
Generator rack valve connection: Manifold
Valve connections: 1 each for wall and cathode per chamber (A, B, C)
Chiller hose size: 3/8 Quick.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP + ist ein fortschrittlicher Halbleiterreaktor, der für Dual-Metall-Ätz- und Ionenimplantationsanwendungen konzipiert ist. Es verfügt über eine integrierte Vakuumausrüstung, ein chemisches Vorkonditionierungssystem und erweiterte digitale Controller und Programmierfunktionen, die den Benutzern die Flexibilität geben, ihre Prozessrezepte für verschiedene Anwendungen anzupassen. Das Gerät verwendet eine mehrzonige, reaktive Gasverteilungsmaschine, die eine gleichmäßige Zufuhr von reaktiven Gasen und eine gute Steuerung des Prozesses ermöglicht. Darüber hinaus umfasst das Tool einen einzigartigen Satz von abnehmbaren Kammern, die die Möglichkeit bieten, Prozesse anzupassen. Das Hauptmerkmal, das AMAT Centura MxP + von anderen Reaktoren unterscheidet, ist seine fortschrittliche reaktive Gasverteilung mit mehreren Zonen. Dieses Modell ermöglicht eine gleichmäßige Abgabe reaktiver Gase, die eine präzise Steuerung des Prozesses ermöglicht. Die mehrzonige Gasverteilereinrichtung wird durch einen an mehrere Gasleitungen angeschlossenen Satz von Hochdruckdüsen erleichtert, die die in die Reaktionskammer abzulassenden Gase signalisieren. Die Gase können dann für gewünschte Effekte gemischt werden, so dass ein Benutzer ihren Prozess für optimale Ergebnisse anpassen. Die Düsen sind aus Hochleistungsmaterialien aufgebaut, was eine lange Lebensdauer gewährleistet. ANGEWANDTE MATERIALIEN Das Centura MxP + System umfasst auch einen einzigartigen Satz abnehmbarer Kammern, wodurch Benutzer Prozesse anpassen oder neue Parameter erkunden können. Darüber hinaus bietet der digitale Regler des Reaktors erstklassige Präzisions- und Programmierfunktionen. Die fortschrittliche digitale Steuerung verwendet eine Reihe von Sensoren und Rückkopplungspunkten, um die Parameter der Kammer während des gesamten Prozesses zu überwachen und zu steuern, was zu einem detaillierteren und genaueren Prozess führt als mit manueller Steuerung. Die integrierte Vakuumeinheit auf Centura MxP + sorgt für einen stabilen und zuverlässigen Vakuumdruck, um eine präzise und konsistente Reaktion innerhalb der Kammer aufrechtzuerhalten. Diese integrierte Maschine verwendet auch ein separates Spülwerkzeug, um eventuelle Restgase in der Kammer zu eliminieren. Darüber hinaus nutzt die Anlage ein chemisches Vorkonditionierungsmodell, das die Einführung von frischen reaktiven Gasen mit jeder Charge ermöglicht. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP + wird entwickelt und hergestellt, um die höchsten Standards für Qualität und Leistung zu erfüllen. Es ist aus hochwertigen Materialien wie Edelstahl und Aluminium gebaut, so dass es robust und langlebig ist. Darüber hinaus wurde die Ausrüstung so konzipiert, dass sie einfach gewartet und gewartet werden kann und den Benutzern eine einfache und kostengünstige Möglichkeit bietet, ihre Systeme in Top-Zustand zu halten. AMAT Centura MxP + ist ein fortschrittlicher, mehrzoniger, digitaler Controller-fähiger Reaktor, der für Dual-Metall-Ätz- und Ionenimplantationsanwendungen konzipiert ist. Das integrierte Vakuum, die chemische Vorkonditionierung und die Gasverteilung ermöglichen eine präzise und einheitliche Prozesssteuerung und -anpassung. Darüber hinaus bieten seine abnehmbaren Kammern und digitalen Programmierfunktionen Benutzern die Möglichkeit, ihre Prozessrezepte an ihre Bedürfnisse anzupassen. Aufgrund seiner hochwertigen Konstruktion und fortschrittlichen Eigenschaften ist APPLIED MATERIALS Centura MxP + eine ausgezeichnete Wahl für Wissenschaftler und Ingenieure, die zuverlässige und präzise Ergebnisse benötigen.
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