Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ #9148385 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+
ID: 9148385
Plasma etchers.
AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA MXP + ist ein Hochleistungsparallelenteller susceptor für die Großserienherstellung von zusammengesetzten Halbleiteroblaten entworfener Reaktor. Der Reaktor weist eine obere Reaktionskammer aus Quarz und eine untere Reaktionskammer aus Edelstahl für maximale Temperaturgleichmäßigkeit und ausgezeichnete Prozessreproduzierbarkeit auf. Die maximal zulässige Substratgröße beträgt bis zu 8 Zoll. Der MxP + -Reaktor ist in der Lage, bei Temperaturen bis 1000 ° C zu arbeiten. Es verfügt über eine fortschrittliche Heizeinrichtung, die Wärmegradienten auf dem Wafer während der Prozessläufe minimiert. Das obere Heizelement besteht aus gesinterten, hochstabilen, strahlungsarmen Wolframstäben. Das untere Heizelement ist ebenfalls aus hochstabilen Wolframstäben aufgebaut und mit einem SPS-gesteuerten Reaktivgasinjektor ausgestattet, der eine präzise Steuerung des Gasstroms und der Zusammensetzung ermöglicht. Das einzigartige patentierte Design des MxP + Reaktors gewährleistet eine ausgezeichnete Temperaturgleichförmigkeit über das Substrat und eine gleichmäßige Reaktionsgeschwindigkeit über die gesamte Oberfläche. Der MxP + -Reaktor ist mit einem Präzisionssubstrattransportsystem ausgestattet, das thermische Veränderungen minimiert, den Durchsatz erhöht und eine gleichbleibende Waferqualität aufrechterhält. Die Transporteinheit besteht aus einem Roboterarm, der so programmiert ist, dass Substrate mit konstanter Geschwindigkeit über die Reaktionskammern bewegt werden, während die automatische Einspritzmaschine die Einspritzung von Reaktivgas in genaue Positionen über das Substrat ermöglicht, um die Abscheidungsgleichmäßigkeit zu verbessern. Der MxP + -Reaktor ist mit einem fortgeschrittenen physikalischen Aufdampfwerkzeug (PVD) ausgestattet, das eine Reabscheidung von bis zu 5 Schichten gleichzeitig ermöglicht, wodurch die Anzahl der erforderlichen Prozessschritte reduziert wird. Der Abscheideregler ist mit einer automatischen Abstimmung ausgestattet, um die Prozessgleichmäßigkeit und -genauigkeit weiter zu verbessern und ist mit einer Vielzahl von Prozessrezepten kompatibel. Der Vermögenswert ist auch in der Lage CMP (chemical mechanical polishing) für die Planarisierung von abgeschiedenen Schichten. Der MxP + -Reaktor ist speziell für hochvolumige Halbleiterherstellungsanwendungen konzipiert und bietet zuverlässige und wiederholbare Prozesse, die zu hohen Ausbeuten führen. Die Eigenschaften dieses hochentwickelten Reaktors sind unerlässlich, um den Anforderungen der heutigen Serienumgebung gerecht zu werden und die Produktqualität und Gleichmäßigkeit zu gewährleisten.
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