Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ #9257030 zu verkaufen
Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.
Tippen Sie auf Zoom


Verkauft
ID: 9257030
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
System, 8"
Wafer shape: SNNF
Centura type: Centura 1
No SMIF interface
Chamber B and C: MXP+
Chamber F: Orient
Buffer robot type: HP
Buffer robot blade: Metal
MF Facilities: Bottom
Smoke detector: Alarm
AC Rack type: Phase 1
Controller rack type: Phase 1
Controller to AC rack: 60 Ft
Pump interface cable: 50 Ft
Load lock type: Wide body / Core tool
Wafer detector: Alarm
Wafer sensor
EMO
Monitor and EDP monitor: Wall mount
Controller to mainframe: 60 Ft
RF to Chamber coaxial: 50 Ft
Chamber A, B and C:
Chamber type: MxP+
IHC Type: MKS 1179
Lid type: Clamp
Bias RF match
Magnet driver
Cathode type: Simply cathode
Gate valve: VAT Gate
ESC Type: Polymide
Manometer type: 1 Torr
Slit valve O-ring: Viton
RF Generator bias: OEM-12B
Endpoint system: Monochrometer
Turbo pump: SEIKO SEIKI 301
Throttle valve: Butterfly
No auto bias
Gas configuration for chamber A, B and C:
GAS 1 / CH2F2 / 100 SEC-4400MC
GAS 2 / SF6 / 100 SEC-4400MC
GAS 3 / N2 / 100 SEC-4400MC
GAS 4 / O2 / 100 SEC-4400MC
GAS 5 / CF4 / 150 SEC-4400MC
GAS 6 / CHF3 / 200 SEC-4400MC
GAS 7 / AR / 200 SEC-4400MC
Gas delivery options:
STEC MFC
Filter: MOTT
Transducer: Core tool
Gas connection: Single line drop
Gas line feed direction: Bottom
Exhaust feed side: BD Side
Transducer displays: Core tool
Regulator: Core tool
Valve: Core tool
Gas line feed side: AC Side
Exhaust: Top
(2) Chillers:
NESLAB HX150 Heat exchanger for cathode and wall
W/RS-485 Interface
Chiller hose size: 3/8 Quick
Generator rack and chiller valve connection: Manifold
Transformer: 208 / 400 A
Line frequency: 60 Hz
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP + ist ein spezialisierter PVD-Reaktor (physikalische Gasphasenabscheidung), der für die Serienproduktion und die Abscheidung von Metall- und Verbundfilmen ausgelegt ist. Der modulare Aufbau des Geräts ermöglicht eine flexible und skalierbare Prozesskonfiguration bei gleichzeitig überlegener Produkteinheitlichkeit und hohem Prozessdurchsatz. Die stationäre Mehrplatten-Prozesskammer besteht aus Edelstahl und hat eine einzigartige Form, die einen effizienten Wärmeübergang und eine gleichmäßige Abscheidung des Materials über den gesamten Wafer ermöglicht. Der AMAT Centura MxP + -Reaktor wird durch ein proprietäres Gasreinigungssystem geschützt, das mit einem Diffusor Verunreinigungen aus der Prozessumgebung filtert und ein gleichmäßigeres Materialwachstum ermöglicht. Das Gerät ist mit einem robusten Satz von Steuerungs- und Überwachungsfunktionen ausgestattet, einschließlich eines hochauflösenden Echtzeit-Prozesscomputers, einer einstellbaren Temperaturplatte und einer Elektronenstrahlpistole mit integriertem Verschluss zur präzisen Abscheidungssteuerung. Zusätzlich stehen drei unabhängige Ionenquellen zur Verfügung, die eine präzise Oberflächenreinigung und energiereiche Ätzung ermöglichen. Weitere Merkmale sind eine Multi-Drive-Maschine, die schnelle Substrat Heizung und Kühlung sowie Antriebsoptimierung für hohe Dicke Gleichmäßigkeit bieten kann. Darüber hinaus kann der eingebaute Gasmonitor niedrige Sauerstoff- und andere Verunreinigungen in Echtzeit erkennen und so eine gleichbleibende Waferqualität gewährleisten. ANGEWANDTE MATERIALIEN Der Centura MxP + Reaktor entspricht den aktuellen SEMI-Standards für Betrieb und Sicherheit. Seine internen Sensoren erkennen Fehler im Werkzeug während des normalen Betriebs und senden eine Warnung an den Monitor. Darüber hinaus sorgt das fortschrittliche SEMI S2-Werkstechnikprotokoll dafür, dass die Sicherheit der Anlage kontinuierlich überwacht wird und unerwartete brennbare Gasexplosionen erkennen und verhindern kann. Der Centura MxP + Reaktor ist nicht nur einfach zu bedienen und zu warten, sondern verwendet auch fortschrittliche Technologie zur präzisen Dickenkontrolle. Das integrierte Modul des Modells, Process Automation Layer (PAL), passt den Prozessablauf automatisch anhand bestimmter Parameter an, um eine optimale Prozessgleichförmigkeit zu erreichen. Der PAL ist in der Lage, die Abscheiderate und das Profil auf eine Auflösung von 1 nm abzustimmen. Dies ermöglicht maximale Oberflächenplanheit und Produktqualität ohne Einbußen beim Durchsatz. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP + ein Hochleistungs-PVD-Reaktor, der für die Serienproduktion und die Abscheidung von Metall- und Verbundfolien ausgelegt ist. Es bietet robuste Steuerungs- und Überwachungsfunktionen, eine präzise Dickenkontrolle und wurde nach aktuellen Sicherheitsstandards konstruiert. Die Ausrüstung ist auch einfach zu bedienen und zu warten, und seine fortschrittlichen Funktionen machen es zu einer idealen Wahl für Halbleiter- und fortschrittliche Verpackungsanwendungen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor