Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP #9290475 zu verkaufen

ID: 9290475
Wafergröße: 8"
Dry etcher, 8".
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP ist ein fortschrittlicher Reaktor mit verbesserter chemischer Dampfabscheidung (PECVD) für die Verarbeitung und Herstellung von Halbleiterbauelementen. Der AMAT Centura MxP Reaktor ist in der Lage, bis zu sechs Wafer gleichzeitig zu verarbeiten und bietet eine zuverlässige, kostengünstige Plattform für die Herstellung von dünnen Folien und Mehrschichtstapeln. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura MxP verfügt über eine fortschrittliche Plasmakontrolle, präzise Temperaturhomogenität und On-the-Fly-Prozessoptimierung, um überlegene Foliengleichmäßigkeit und Qualität zu gewährleisten. Der Reaktor kann eine Vielzahl von Materialien herstellen, darunter SiO2, Si3N4, SiN, Ta2O5, TaN und Al2O3. Der Reaktor ist mit zwei unabhängigen Plasmaquellen ausgestattet, die die Bildung von Mehrschichtstapeln und Mehrfachentkopplungsverfahren für Folien mit komplexen Materialzusammensetzungen ermöglichen. Centura MxP verwendet mehrere Geometrien, um eine präzise Temperaturhomogenität über die gesamte Waferoberfläche zu gewährleisten. Das hohe Seitenverhältnis des Reaktors ermöglicht ein gleichmäßiges Ätzen und Abscheiden über die gesamte Waferoberfläche. Dies ermöglicht ein gleichmäßiges Ätzen und Abscheiden von Merkmalen mit hohem Seitenverhältnis, wie Gräben und Kombinationsstrukturen. Der Reaktor verfügt auch über eine erweiterte Temperaturregelung mit einstellbarem Gasstrom und eine temperaturbasierte automatische Kalibrierungssequenz für Präzision und Wiederholbarkeit. Es ist auch mit einem Vakuumleckerkennungssystem für erhöhte Sicherheit und Zuverlässigkeit ausgestattet. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP bietet höchste Prozesssicherheit, Prozessleistung und Kosteneffizienz für präzises Dünnschichtabscheiden und Ätzen. Es eignet sich hervorragend für die Herstellung von MEMS, fortschrittlichen Verbindungsleitungen und mehreren anderen anspruchsvollen Mikroherstellungsanwendungen. Das hochmoderne Design des Reaktors ermöglicht eine kurze Lernkurve und schnelle Einbindung in jede Produktionsstätte.
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