Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ #9293856 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP + Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor ist ein Produktionsmaßstab fortschrittliche Abscheidung Ausrüstung entwickelt, um Hochgeschwindigkeits-, Niedertemperatur-Abscheidung von ultradünnen Filmen zu ermöglichen. Dieses System ist speziell für die Herstellung von hochleistungsfähigen optoelektronischen Komponenten und anderen Anwendungen konzipiert, die eine schnelle Abscheidung bei niedrigen Temperaturen erfordern. Die PECVD-Einheit besteht aus einer Reaktorkammer, einer unabhängigen Plasmaquelle und einer Reihe von Reglern zur Steuerung der Prozessrezeptur. Innerhalb der Kammer wird das Plasma durch Anlegen einer Hochfrequenzstromversorgung an ein Paar keramischer Elektroden erzeugt, wodurch eine Hochtemperatur- und Hochdruckumgebung entsteht. Aus dieser Umgebung werden dann chemische Reaktionspartner erzeugt, die chemisch und thermisch miteinander wechselwirken und auf der belichteten Oberfläche des Substrats einen dünnen Film bilden. AMAT Centura MxP + verfügt über eine fortschrittliche Kühlmaschine, die eine schnelle Kühlung der Prozesskammer und des Substrats ermöglicht. Mit dem Kühlwerkzeug können Temperaturen gehalten und an die spezifischen Anforderungen jedes Abscheideprozesses angepasst werden. Darüber hinaus verfügt die Anlage über eine Reihe von Reglern zur Steuerung verschiedener Aspekte des Abscheideprozesses, wie Betriebsdruck, Leistungspegel und Filmtemperatur. Die Kombination dieser Merkmale ermöglicht es dem Modell, Abscheideraten von bis zu 200 nm pro Minute zu erreichen. In Bezug auf die Prozessfähigkeit kann APPLIED MATERIALS Centura MxP + sowohl Metall- als auch Metalloxidfilme sowie organische und dielektrische Materialien bei Temperaturen bis zu 50 ° C abscheiden. Dies ermöglicht die Herstellung von hochleistungsfähigen optoelektronischen Komponenten ohne hohe Temperaturen und macht die Geräte ideal für Anwendungen wie die Herstellung von ultradünnen Filmen für Solarzellen, OLED-Displays und andere Anwendungen. Centura MxP + verfügt auch über eine integrierte planare Magnetronquelle zur Erzeugung von Stickstoff, Helium und anderen Plasmasorten für Anwendungen, die Hochgeschwindigkeitsätz-, Asche- und Abscheidungsprozesse erfordern. Darüber hinaus verfügt das System über eine erweiterte Überwachungs- und Datenerfassungseinheit, die den Anwendern einen detaillierten Überblick über den gesamten Prozess sowie endgültige Nachbearbeitungsergebnisse bietet. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP + eine robuste, fortschrittliche PECVD-Maschine, die eine einzigartige Lösung für die Herstellung von hochleistungsfähigen optoelektronischen Komponenten, Solarzellen, OLED-Displays und anderen Anwendungen bietet. AMAT Centura MxP + bietet Anwendern mit seinen verschiedenen Prozessfähigkeiten, fortschrittlichen Controllern und integrierten Magnetronquellen eine leistungsstarke, kostengünstige Option für plasmabasierte Abscheidungsprozesse.