Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura P5000 #293651591 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura P5000 ist eine Niederdruck-Mehrfachreaktor-, CVD-Ausrüstung (Chemical Vapor Deposition) zur Herstellung überlegener Dünnschichtauskleidungsmaterialien für fortgeschrittene Gerätestrukturen sowie dielektrische, Passivierungs-, Haft- und Barriereschichten. Dieser vielseitige Reaktor bietet einen hohen Durchsatz und eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit für kritische Prozessschritte wie Aufdampfen und Nachbeschichten von Glühen in einer Vielzahl von Halbleiterprozessanwendungen. Das System besteht aus mehreren Hauptverarbeitungskammern und bis zu vier zusätzlichen Prozesskammern für Substratvorreinigungs-, Ätz- und Nachbearbeitungsfunktionen. Die Hauptprozesskammer hat zwei primäre Prozessquellen, typischerweise zwei Suszeptorhalter, die die Abscheidung von einzelnen und mehreren Schichten von Materialien, wie Siliziumnitrid, Siliziumoxid, Aluminiumoxid, Tantaloxid, Aluminiumnitrid, Siliziumcarbid und anderen Barrierematerialien ermöglichen. Der Suszeptorhalter ist so konzipiert, dass Temperatur, Druck, Leistung und Abscheiderate in situ eingestellt werden können. Dies ermöglicht eine größere Flexibilität bei der Feinabstimmung der Anwendungsparameter und bietet eine gleichmäßige Ablagerung von Materialien. Die primären Prozesskammern können Substrate bis zu 30 cm zwischen Quelle und Substrat aufnehmen. Die hochmoderne Abbildungseinheit mit geschlossener Rückkopplung bietet Echtzeit-Abbildungen, um eine präzise Schichtsteuerung zu ermöglichen. AMAT Centura P5000 Reaktor kann für eine Vielzahl von Halbleiteranwendungen wie Gate-Dielektrikum, Passivierung, Kontaktbarriere, Adhäsion und dielektrische Dünnschichtabscheidung eingesetzt werden. Die Maschine eignet sich auch gut für flache Trenchisolierung, ultraflache Verbindungsbildung, High-K-Abscheidung und Glühen, Bildung von Silizidkontakten, Adhäsions- und Oberflächenkonditionierung und andere Nachbearbeitungsfunktionen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura P5000 bietet viele Vorteile in der Halbleiterherstellung, einschließlich hoher Durchsatz, verbesserte Prozesssteuerung und ausgezeichnete Gleichmäßigkeit. Das Tool verfügt außerdem über mehrere benutzerfreundliche Funktionen wie Hochgeschwindigkeitsladung, automatisierte Fernbedienung und einfache Prozessrezepte, die eine größere Kontrolle und Flexibilität ermöglichen, um die Kundenanforderungen zu erfüllen.