Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PE CVD #9116532 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PE CVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) ist ein voll ausgestatteter Einzel-Wafer-Reaktor zur Durchführung hochwertiger, plasmaverbesserter chemischer Dampfabscheidung (PECVD) von Photoresist auf Polysilizium, Silizium und anderen Substraten. Das PE-CVD-Verfahren basiert auf dem Aufbringen von zwei oder mehr Gasen auf das Substrat mittels eines Plasmas. Die Quellgase sind typischerweise Silan (SiH4) für das Wachstum von Polysiliziumfolien oder Diboran (B2H6) für das Wachstum von Siliziumnitridfilmen. Die Gase werden über einen Gasverteiler in die Reaktionskammer transportiert und die reaktiven Spezies für die Filmbildung durch ein Plasma erzeugt, das zwischen zwei oder mehreren Elektroden gebildet wird, die von einem Mikrowellengenerator angetrieben werden. AMAT Centura PE CVD-Ausrüstung bietet eine breite Palette von Prozessfähigkeiten, einschließlich der Fähigkeit, qualitativ hochwertige, dünne Filme über große Flächen, hohen Durchsatz und gleichmäßig verteiltes Plasma über das Substrat abzuscheiden. Das Plasma wird über eine Elektrodenanordnung erzeugt, die aus zwei dielektrischen Ringen und mehreren um den Wafer angeordneten Wolframeinsätzen besteht. Das Plasma wird über ein automatisiertes Schlitzringsystem zum Substrat geleitet, das eine gleichmäßige und effiziente Gasförderung gewährleistet. Die Gasfördereinheit verwendet patentierte Technologien wie variable Gasförderventile und vorkalibrierte Gaseinspritzpunkte, um einen hohen Durchsatz und eine geringe Ungleichmäßigkeit der Abscheidung zu gewährleisten. Der Themicrowave-Generator kann bis zu 20 kW HF-Leistung liefern, um ein Plasma der gewünschten Elektronendichte am Substrat zu erzeugen, um ein gleichmäßiges Filmwachstum zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt die Centura über spezielle Prozessüberwachungs- und Diagnosefunktionen wie die In-situ-Diagnosespektroskopie, um eine qualitativ hochwertige Abscheidung zu gewährleisten. Die Maschine ist mit einer Steuereinheit ausgestattet, die es dem Benutzer ermöglicht, die Prozessparameter in Echtzeit zu überwachen und zu verwalten. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura PE CVD-Werkzeug ist entworfen, um überlegene Prozessgleichförmigkeit und Folienwachstumseigenschaften zu bieten. Es bietet ein automatisiertes chemisches Management und eine präzise Steuerung des Abscheidungsprozesses, wie Temperatur, Zeit, Druck und Gasfluss. Mit seinem robusten Design ist das Asset in der Lage, über längere Zeiträume zuverlässig zu arbeiten und kann problemlos auf eine Vielzahl von Produktionsanforderungen umkonfiguriert werden.