Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #293625549 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD
ID: 293625549
Wafergröße: 8"
Sputtering system, 8".
AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor ist eine hochpräzise, hochleistungsfähige physikalische Dampfabscheidung (PVD). Der Reaktor ist zur Verarbeitung von Dünnschichtschichten auf Substraten, wie Halbleiterprodukten, bei hohen Abscheideraten und niedrigen Substrattemperaturen ausgelegt. Das System ist in der Lage, eine Vielzahl von Materialien abzuscheiden, einschließlich Metallnitride, Metalloxide und Polysilizium. Das Gerät verfügt über eine Heißwand Quarzkammer mit 10,2 "Durchmesser und 100 Torr Basisdruck. Die Reaktorkammer enthält auch einen eingebetteten Faden zur Abscheidung von Metalldünnfilmen. Die eingebaute Gasströmungsmaschine ist für eine gleichmäßige Gasverteilung und die präzise Steuerung der Durchflussraten und die Abgabe präziser Dosen von Abscheidegasen ausgelegt. Der Reaktor wird von einem patentierten Wärmetauscherwerkzeug angetrieben, das drei Luftströmungskanäle mit einem hohen thermischen Wirkungsgrad nutzt, um präzise Prozesstemperaturen aufrechtzuerhalten und gleichzeitig den Stromverbrauch zu minimieren. APPLIED MATERIALS/AMAT Centura PVD Reactor ist zudem mit einem hochauflösenden Digitalkamera-Asset zur präzisen Endpunkterkennung und einem variablen Geschwindigkeitsregler zur unabhängigen Prozesssteuerung ausgestattet. Das Modell wird auch mit einer In-Process-Diagnoseausrüstung geliefert, die Echtzeitinformationen über den Zustand des Reaktors liefert. Die integrierte drahtlose Schnittstelle ermöglicht die Kommunikation mit externen Geräten wie Computern und ermöglicht die Erfassung und Verarbeitung von Reaktordaten während des Betriebs des Systems. Darüber hinaus bietet AMAT/APPLIED MATERIALS/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor eine Vielzahl von Sicherheitsfunktionen, wie Passwortschutz und Benutzerauthentifizierung, um einen sicheren Betrieb zu gewährleisten. Das Gerät verfügt auch über eine Reihe von Umgebungssensoren, einschließlich Temperatur- und Drucksensoren, die die Betriebsbedingungen überwachen und steuern, um die Sicherheit zu erhöhen. Zusammenfassend ist AMAT/Centura PVD Reactor eine hochpräzise und zuverlässige PVD-Maschine, die eine genaue Dünnschichtabscheidung bei reduzierten Temperaturen ermöglicht. Der Reaktor verfügt über eine Vielzahl von Funktionen wie ein eingebettetes Filament, ein hochauflösendes Digitalkamera-Tool und ein Echtzeit-Diagnosegerät, das eine vollständige Prozesskontrolle bietet, mühelos und sicher.
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