Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #293626643 zu verkaufen

AMAT Centura™ PVD-Reaktor ist ein fortgeschrittenes physikalisches Bedampfungswerkzeug (PVD), das zur Abscheidung von Dünnschichtanwendungen verwendet wird. Es ist einer der zuverlässigsten und kostengünstigsten Ansatz für die Herstellung von fortschrittlichen Technologie elektronischen Komponenten. Unter Verwendung der Bestrahlung mit Elektronenstrahlen hoher Dichte ist der ANWENDUNGSMATERIALIEN Centura™ PVD-Reaktor in der Lage, ultradünne Filme umweltfreundlich auf Substraten abzuscheiden. Es ist ideal für die Herstellung von komplexen Bauelementstrukturen wie gestapelten Gate-Transistoren, vergrabenen Kontakttransistoren und anderen Bauelementen. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura™ PVD-Reaktor ist mit einer hoch kontrollierbaren Abscheidekammer ausgestattet, die eine präzise Kontrolle der Substrattemperatur während des Prozesses ermöglicht. Das Design verwendet auch eine amorphe Silizium (a-Si) Elektronenstrahlquelle für höhere Abscheidungsraten als herkömmliche E-Strahlquelle. Diese Konstruktion ermöglicht auch eine bessere Kontrolle der Abscheiderate und eine Minimierung der Ungleichmäßigkeit der Folie. Zusätzlich minimiert der hochenergetische Elektronenstrahl die Energiedichte auf dem Substrat, so dass er in einem optimalen Zustand bleibt, um eine zuverlässige Filmabscheidung zu erreichen. Der Centura™ PVD-Reaktor ist mit einer fortschrittlichen in-situ Turbomolekularvakuumpumpe ausgestattet, die kalibriert werden kann, um einen optimalen Betriebsdruck zu erreichen. Zusätzlich weist es ein eingebautes Massenanalysesystem zur Messung der in der Abscheidekammer vorhandenen Partikel auf, um die Reinheit der erhaltenen Folie zu gewährleisten. Dies ermöglicht eine höhere Konsistenz und Zuverlässigkeit während des Prozesses. Der Centura™ PVD ermöglicht durch sein wirtschaftliches Design auch Kosteneinsparungen. Das Verfahren kann eine Vielzahl von Substraten von pulverförmigen Metallen und Glas bis Metallfolie aufnehmen, was zu geringeren Kosten im Zusammenhang mit Ausgangsmaterialien führt. Darüber hinaus ermöglicht AMAT Centura™ PVD-Reaktor höhere Produktionsausbeuten und schnellere Abscheidezeiten, was zu Kosteneinsparungen in Form erhöhter Arbeitseffizienz und erheblich reduzierter Ausfallzeiten führt. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura™ PVD-Reaktor ist ein zuverlässiges und kostengünstiges Werkzeug zum Abscheiden von dünnen Filmen. Seine fortschrittlichen Eigenschaften und sein flexibles Design machen es zu einer idealen Wahl für eine Reihe von Anwendungen in der fortschrittlichen Herstellung von elektronischen Geräten. Durch die Verwendung von Elektronenstrahlung hoher Dichte ist es in der Lage, wiederholbare und zuverlässige Filme unter Verwendung minimaler Energie abzuscheiden. Es bietet auch Kosteneinsparungen durch schnellere Ablagerungszeiten und höhere Produktionserträge, so dass es eine gute Wahl für die Massenproduktion.