Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #9239622 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor ist ein physikalisches Aufdampfwerkzeug (PVD), das zur Abscheidung dünner Filme auf Substraten mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit entwickelt wurde. Es verwendet fortschrittliche Mehrschlauch- und Mehrfachpistolentechnologie, um gleichmäßige, ultradünne Materialschichten auf einem Substrat abzulegen. Die hohe Abscheiderate dieses Werkzeugs macht es für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet, einschließlich der Herstellung von Halbleiterbauelementen, der mikroelektronischen Verpackung, der Herstellung medizinischer Geräte und der optischen Beschichtungsabscheidung. AMAT Centura PVD Reactor hat eine kleine Stellfläche und ist für den Einsatz in einer Vielzahl von Einstellungen und Konfigurationen konzipiert. Es ist eine Maschine mit hohem Durchsatz mit einer Reihe von Prozesssteuerungsfunktionen. Das Prozessgasfördersystem von APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor wurde entwickelt, um optimale Gasdurchflussraten und Zerstäubungsverteilungen für maximale Abscheidungsgleichmäßigkeit zu gewährleisten. Die integrierte Abgasanlage ermöglicht eine effiziente Entlüftung von Flüchtigen und gewährleistet die Qualität und Sauberkeit der Abscheidungsumgebung. Darüber hinaus verfügt der Reaktor über eine geschlossene Temperaturregelung für ein genaues Temperaturmanagement. Centura PVD Reactor bietet überlegene Abscheidungsgleichmäßigkeit im Vergleich zu anderen PVD-Werkzeugen. Der Reaktor verfügt über hervorragende Materialbeladungs- und Dispergierfähigkeiten für feingranuliertes Präzisionsmaterial aus einer Vielzahl von Quellen (Gold, Silber, Aluminium, Titan, Zirkonium usw.) und kann eine breite Palette von Metallen und Legierungen in jeder beliebigen Kombination abscheiden. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor ist entworfen, um Partikelbeaufschlagung auf der Substratoberfläche zu minimieren, um gleichmäßig glatte und gleichmäßige Abscheidungsschichten zu gewährleisten, auch bei der Verarbeitung extrem dünner Materialien. AMAT Centura PVD Reactor verwendet fortschrittliche Automatisierungs- und Steuerungstechnik, um eine optimale Prozesssteuerung zu gewährleisten. Die integrierte Prozessüberwachung und Steuerungsfunktion der Kammer ermöglicht eine präzise Steuerung während der gesamten Prozessabläufe. Das Tool verfügt zudem über ein automatisiertes Reaktionskammereinstellungsmenü zur einfachen und schnellen Anpassung von Rezepteinstellungen sowie Zeit- und Materialeinsparungen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura PVD Reactor ist eine ideale Lösung für den Bedarf an Dünnschichtabscheidung im Serienbereich. Mit seiner überlegenen Gleichmäßigkeit, Präzisionsprozesssteuerung und zuverlässigen Automatisierung kann es verwendet werden, um Präzisionsfolien für eine Vielzahl von Anwendungen herzustellen, die extrem dünne und gleichmäßige Schichten erfordern.