Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #9244066 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor ist ein hocheffizientes Dünnschichtauftragsgerät auf Plasmabasis für den Einsatz von hochwertigen Mehrschichtdünnschichtbeschichtungen. AMAT Centura PVD Reactor produziert eine hochgleichmäßige, ultradünne Filmbeschichtung mit hervorragenden Barriereeigenschaften und eignet sich somit ideal für Anwendungen wie optische Beschichtungen und Schutzbeschichtungen für elektronische Geräte. Der Reaktor verwendet eine mehrköpfige Gleichstrom-Entladungs-Plasmaquelle für die Einleitung von Metallionen und eine zylindrische Plasmakammer für die Abscheidung. Die Kammer ist konzentrisch mit einer positiven und negativen Stromversorgung am Boden bzw. am obersten Abschnitt ausgebildet. Die im Reaktor eingesetzten Reaktivgase sind Wasserstoff, Argon, Xenon, Neon und Schwefelhexafluorid. Der Reaktor verwendet eine fortschrittliche plasmabasierte Abscheidungstechnik, die als „Sputter-Verdampfung“ bezeichnet wird, wobei energetische Ionen (typischerweise Argon oder Xenon) von einer Hochspannungsquelle angesteuert werden. Die erregten Ionen werden dann auf das auf der Substratplatte am Boden des Reaktors abgeschiedene Substrat geleitet. Die energetischen Ionen lösen das abgeschiedene Material aus, das dann entlang der Wände der Plasmakammer gesputtert wird. Beim Erreichen des Substrats unterliegen die Materialien chemischen Reaktionen und bilden eine Dünnschichtbeschichtung. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura PVD Reactor verwendet eine Reihe von Technologien, um hervorragende und zuverlässige Ergebnisse zu gewährleisten. Die „floating substrate“ -Technik erzeugt auch großflächig gleichmäßige Abscheideraten von Filmen. Die Centura nutzt eine innovative „lineare Gleichstromquelle“ (LDC), um eine konsistente Plasmadichte zu liefern. Der Reaktor ist in der Lage, eine hochpräzise Temperaturregelung und gleichmäßige Filmdicken auch über komplexe Formen hinweg zu erreichen. Das System verfügt außerdem über eine Reihe von automatisierten Gasmanagement- und Predictive-Health-Monitoring-Funktionen, die das Gerät sicher und effizient am Laufen halten. Abschließend ist der Centura PVD Reactor eine hochpräzise Dünnschichtabscheidemaschine, die für die Herstellung hochgleichförmiger Mehrschichtfolien ausgelegt ist. Neben hervorragenden Barriereeigenschaften und gleichmäßigen Filmdicken nutzt der AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor mehrere Technologien, um zuverlässige Ergebnisse und eine qualitativ hochwertige Filmabscheidung zu gewährleisten.