Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #9244068 zu verkaufen

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AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD
Verkauft
ID: 9244068
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
Sputtering system, 8" 1996 vintage.
AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD (Physical Vapor Deposition) Reaktor ist ein industrielles Werkzeug für die Abscheidung von dünnen Schichten und Beschichtungen verwendet. Das Gerät besteht aus einer Vakuumkammer, einer Elektronenstrahlkanone, einem Magnetfeldgenerator, einem Gasverteilungssystem und Heiz- und Kühlelementen. Der AMAT Centura PVD-Reaktor arbeitet in einer Vakuumkammer, um die Qualität des Abscheidungsprozesses zu gewährleisten, was für die Herstellung dünner Filme oder Beschichtungen unerlässlich ist. Innerhalb der Vakuumkammer wird eine Elektronenstrahlpistole, auch Quelle genannt, verwendet, um Elektronen auf eine Kathode in der Mitte der Kammer zu lenken. Dies bewirkt, dass Atome oder Moleküle eines Zielmaterials, das als Sputtergas bezeichnet wird, Ionen enthalten, die es ermöglichen, über die Kammer zu driften und auf das Substrat oder Zielmaterial zu treffen. Um die korrekte Kollimation der gesputterten Ionen zu gewährleisten, wird ein Magnetfeld erzeugt, mit dem die Ionen vom Sputtergas zum Substrat geleitet werden. Die abgeschiedenen Folien und Beschichtungen erfordern auch präzise Heiz- und Kühlelemente. Während des Prozesses wird eine Gasverteilereinheit verwendet, um die genaue Diffusion vieler verschiedener Gase innerhalb des Reaktors zu gewährleisten. Verschiedene Gase, wie Argon, Sauerstoff und Stickstoff, werden für verschiedene Arten von Folien und Beschichtungen verwendet. Je nach Art der zu zerstäubenden Folien oder Beschichtungen können auch zusätzliche Gase verwendet werden, um spezifische Ergebnisse zu erzielen. Wenn beispielsweise Beschichtungen mit geringem Verschleiß erforderlich sind, wird eine größere Menge Argongas verwendet, um die Sauerstoffkonzentration innerhalb der Kammer zu reduzieren und das reine und gleichmäßige Sputtern zu unterstützen. Insgesamt ANGEWANDTE MATERIALIEN/ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura PVD Reaktor ist eine äußerst vielseitige Maschine, die für viele verschiedene Arten von Folien- und Beschichtungsanwendungen eingesetzt werden kann. Durch Optimierung verschiedener Parameter, wie Gaszusammensetzung, Substrattemperatur und Substratposition, können verschiedenste Materialien abgeschieden werden, um eine Reihe von gewünschten Eigenschaften zu erhalten. Das Werkzeug ist effizient, zuverlässig und kostengünstig, was es zu einer beliebten Lösung für eine Vielzahl von Dünnschicht- und Beschichtungsanwendungen macht.
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