Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #9266097 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA PVD ist ein fortgeschrittener Reaktor von Physical Vapor Deposition (PVD), der entworfen und für dünne Hochleistungsfilmabsetzungsanwendungen verfertigt ist. Die Ausrüstung ermöglicht ein sehr genaues Dünnschichtwachstum und umfasst eine Reihe von Funktionen, die auf Präzision und Wiederholbarkeit bei gleichzeitig hoher Produktivität und Produktionsausbeute ausgelegt sind. AMAT Centura PVD verfügt über eine einzige Prozesskammer mit Dünnschichtabscheidung, eine Vakuumumgebung zur Aufrechterhaltung der Prozessreinheit und einen Satz bewegungsbasierter Hardwarekomponenten für grundlegenden Materialtransport und Substratabsichtsmanipulation. Das System ist hochautomatisiert und umfasst einen kompletten Satz von Sensoren, automatisierten Prozessen und computergesteuerten Systemen zur Steuerung des Abscheideprozesses. Der schrankintegrierte Computer bietet eine vollständige Palette von Steuer- und Geräteparametern, und ein Backside-Softwarepaket ist verfügbar, um die Verbindung und Steuerung zu erleichtern. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura PVD-Maschine umfasst fortschrittliche Abscheidungsprozesse wie Atomschichtabscheidung (ALD) und gepulste Laserabscheidung (PLD). ALD ermöglicht die Bildung ultradünner Materialschichten, während PLD für das Wachstum von Stählen, nicht legierten Metallen und Legierungen verwendet wird. Die Kammer ist mit einem Zugangsfenster zur medienunterstützten Abscheidung ausgestattet, das das Einbringen von Zielmaterialien aus der Außenumgebung in die Prozesskammer ermöglicht. Dieses Verfahren wird zur schnellen Abscheidung von Metallen, Keramik und Polymeren sowie für Sputterätzoperationen eingesetzt. Centura PVD-Werkzeug ist mit einer Vielzahl von Gas- und Sauerstoffeinlassmöglichkeiten für die Einleitung bestimmter Gase in die Prozesskammer ausgestattet. Dies ermöglicht die Optimierung der Substratoberflächenchemie und -stabilität. Die Fähigkeit, Kammertemperatur, Druck und Gasmischung zu überwachen und zu steuern, ermöglicht das Wachstum von Materialien, um kundenspezifische Anforderungen zu erfüllen. Darüber hinaus verfügt AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD über eine Vielzahl fortschrittlicher Diagnosefunktionen, um reproduzierbare Prozessergebnisse sicherzustellen. Dazu gehört eine umfangreiche Kombination von In-Situ- und Ex-Situ-Diagnosewerkzeugen, die eine präzise Kontrolle des Wachstumsprozesses und der Kontrolle der Substratmorphologie ermöglichen. Die Anlage verfügt auch über eine vollständige Palette von Sicherheitssystemen, wie automatische Abschaltung, um die Ausrüstung vor Schäden oder Unfällen zu schützen. Das AMAT Centura PVD-Modell bietet eine fortschrittliche Hochleistungsplattform für eine Vielzahl von Dünnschichtabscheidungsanwendungen. Seine leistungsstarken Gerätekomponenten, automatisierten Prozesse, fortschrittlichen Diagnose- und Sicherheitsfunktionen und seine ausgeklügelten Anpassungsfunktionen machen dieses System zu einem idealen System für eine Vielzahl von Forschungs- und Produktionsanforderungen.