Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura RTP XE #9238004 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura RTP XE ist ein leistungsstarker Reaktor für kritische Prozessanwendungen in der Halbleiter- und Flachbildschirmindustrie. Das XE-Modell besteht aus einer atmosphärischen Druck-, Hochvakuumkammer in Kombination mit einer fortschrittlichen Wafer-Prozess- und Temperaturmanagementausrüstung. Dieses integrierte System enthält eine Reihe von Funktionen zur Optimierung der Prozesseffizienz und Wiederholbarkeit. Die Reaktorkammer hat ein Innenvolumen von 50 Litern und besteht aus einem widerstandsfähigen Wandmaterial, um eine hervorragende Wärme- und Strahlungsgleichförmigkeit zu erzielen. Der Reaktor beinhaltet eine doppelseitige Erwärmung, die gleichmäßige Prozesstemperaturen bis 1000˚C für extrem hohe Durchsatzleistungen oder spezielle Anwendungen ermöglicht, die Temperaturen zum 2000˚C erfordern. Die XE ist mit einer Stickstoff-Bypass-Option ausgestattet, die eine schnelle Spülung der Kammeratmosphäre mit hochreinem Stickstoff oder anderen Gasen ermöglicht. Es enthält auch eine Vielzahl von Optionen für die Prozesssteuerung einschließlich einer Drucküberwachung, Prozessgasmischer und Gasstrom-Sicherheitsmonitor. Das XE beinhaltet auch eine fortschrittliche Wafer-Temperatur-Management-Einheit, die maximale Gleichmäßigkeit bei Warmlauf- und Prozessoperationen ermöglicht. Die Temperaturmanagementmaschine sorgt für Konsistenz zwischen Substraten und über mehrere Prozessschritte hinweg. Das Prozessautomatisierungstool des XE wurde entwickelt, um den Durchsatz zu erhöhen und primäre Pfadfunktionen wie Wafer Edge Exclusion zu schützen. Es enthält eine Reihe von Sicherheitsfunktionen wie Verriegelungen, um versehentliche Öffnungen, Ausfallalarme und ein PID-Steuerelement mit geschlossenem Regelkreis zu verhindern. Zusammen bieten diese Merkmale einen hohen Schutz vor unbeabsichtigter Strahlenbelichtung. AMAT Centura RTP XE ist ein ideales Werkzeug für eine Vielzahl von Halbleiter- und Flachbildschirm-Anwendungen. Das fortschrittliche Wafer-Temperaturmanagementmodell, die Prozessautomatisierungsfunktionen und eine breite Palette optionaler Funktionen bieten ein optimales Werkzeug für diejenigen, die kritische Operationen durchführen.