Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura RTP #9238454 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura RTP (Rapid Thermal Processing) ist ein fortschrittlicher, hochautomatisierter Reaktor zur Verarbeitung von Halbleiterscheiben. Dieses hochmoderne System ist in der Lage, Wafer innerhalb genauer Temperaturgrenzen schnell zu erwärmen und zu kühlen. Es bietet die für eine Vielzahl einzigartiger Verarbeitungsanwendungen erforderliche Geschwindigkeit und Genauigkeit, von Glühen und Oxidation bis zum schnellen thermischen Anbau von Nitridschichten. Mit dieser Einheit können Wafer für Photolackbeschichtung, Ätzen, Ionenimplantation und andere mikroelektronische Verfahren hergestellt werden. AMAT Centura RTP verfügt über eine automatisierte Wafer-Handhabungsmaschine auf Basis einer Roboterbewegungssteuerung und einer patentierten Wafertransporttechnologie. Dadurch wird eine genaue Positionierung jedes Wafers innerhalb der Reaktorkammer erreicht. Das gesamte Werkzeug ist äußerst zuverlässig konzipiert, mit integrierten Rückkopplungs- und Überwachungssystemen, um eine genaue Kalibrierung von Temperaturen und Drücken zu gewährleisten. ANGEWANDTE MATERIALIEN Die Reaktorkammer von Centura RTP besteht aus einer Reihe konzentrischer Schichten aus Stahl, Titan, Keramik und Aluminium. Es wird von einer 300W Halogen-Infrarot-Heizung für eine schnelle thermische Verarbeitung angetrieben. Diese Heizung kann die Temperatur der Reaktionskammer innerhalb von Minuten auf 1000 ° C erhöhen. Die Anlage ist auch mit einem Kühlmodell ausgestattet, um die Temperaturen schnell und präzise zu reduzieren. Centura RTP arbeitet über eine Pascal Programmiersprache-basierte Computerschnittstelle. Dies ermöglicht eine präzise und wiederholbare Steuerung der Reaktionskammerparameter. Benutzer können auch benutzerdefinierte Prozesse erstellen, um die spezifischen Anforderungen ihrer Anwendung zu erfüllen. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura RTP bietet eine äußerst zuverlässige und effiziente Möglichkeit zur Bearbeitung von Wafern. Seine hochautomatisierte Ausrüstung, effiziente thermische Verarbeitungsfunktionen und leistungsstarke Computerschnittstelle machen es zu einer effektiven Wahl für eine Vielzahl von Halbleiterverarbeitungsanwendungen.