Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura SA CVD #293767652 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura SA CVD ist ein semi-atmosphärischer, single-wafer, low-cost Thermal Chemical Vapor Deposition (CVD) Reaktor entwickelt, um extrem gleichmäßige und konforme dünne Filme auf einer breiten Palette von kristallinen und amorphen Substraten zu produzieren. Dieser Reaktor eignet sich für den Einsatz in der Herstellung von Halbleiterbauelementen und kann sehr präzise Eigenschaften bei geringem Prozessaufwand und hoher Zuverlässigkeit liefern. AMAT Centura SA CVD verfügt über eine einzige Hochtemperaturreaktorkammer, die eine gleichmäßige Temperatur über das gesamte Substrat bereitstellen kann. Diese Kammer ermöglicht die Verwendung einer Vielzahl von Temperaturprofilen für eine Vielzahl von Materialien. Der Temperaturbereich des Reaktors beträgt 300 ° C bis 700 ° C. Die große Kammer des Reaktors ermöglicht auch einen variablen Druckbereich von 1 Bar bis 10 Bar, abhängig von der verwendeten Gaskombination. Dadurch kann der Anwender die während des Abscheidungsprozesses auftretende chemische Reaktion genau steuern. ANGEWANDTE MATERIALIEN Der Centura SA CVD-Reaktor ist für einen geringen Stromverbrauch mit einer Leistung von 3,2 kW bis 4,7 kW ausgelegt. Die beiden unabhängigen Gasstromregler versehen die Einbauten des Reaktors mit einem präzisen Gasgemisch, das die Abscheidung hochwertiger Filmschichten mit sehr kurzen Zykluszeiten ermöglicht. Die vergoldeten wiedereinsteigenden Duschköpfe sorgen für eine verbesserte Gleichmäßigkeit der Wärmeübertragung und eine hervorragende Temperaturregelung über den einzelnen Wafer, was eine extrem gleichmäßige Filmabscheidung ermöglicht. Centura SA CVD Reaktor verfügt auch über ein modernes Heizsystem mit hocheffizienter Isolierung. Zur Erzielung niedriger Partikelwerte in der Reaktorkammer wird ein elliptischer elektrostatischer Filter mit sehr hohem Sammelwirkungsgrad verwendet. Darüber hinaus sind die Peripheriesysteme innerhalb des Reaktors als integrierte Einheit ausgebildet und in einem Edelstahlgehäuse eingeschlossen, das für optimalen Wärmeübergang und zuverlässigen Betrieb dimensioniert ist. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura SA CVD Reaktor ist für eine breite Palette von Materialien und Anwendungen konzipiert. Es eignet sich zur Abscheidung von Niedertemperatur-Siliziumoxidfilmen und anderen Polymeren auf Silizium und anderen kristallinen Wafern sowie Rückenebenen und konformen Schichten für eine Vielzahl von Dünnschichtvorrichtungen. Mit diesem Reaktor ist eine präzise Dünnschichtabscheidung möglich und die Materialcharakterisierung wird durch ihr fortschrittliches Design unterstützt. AMAT Centura SA CVD Reaktor ist ein sehr zuverlässiger Reaktor, der aufgrund seiner einfachen Bedienung und Einrichtung einfach zu bedienen ist. Auch unerfahrenes Personal kann den CVD-Reaktor dank seiner narrensicheren Steuerung und wartungsarmen Konstruktion sicher bedienen. Seine intuitive GUI zeigt Schritt-für-Schritt-Anleitungen an, um eine effiziente Bedienung zu erleichtern, während Fehlerindikatoren Benutzer bei Problemen warnen. Der Reaktor ist für die Kommunikation über Ethernet und andere externe Geräte zur Fernüberwachung ausgestattet.