Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura SA CVD #9116524 zu verkaufen

AMAT Centura® SA CVD ist ein CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der von APPLIED MATERIALS entwickelt und hergestellt wurde. Es wird am häufigsten zur Herstellung von Halbleiterbauelementen und -schaltungen verwendet. Der CVD-Reaktor arbeitet mit einer Kombination von Wärme- und gasförmigen Reaktionspartnern, um einen dünnen Materialfilm auf einem Substrat abzuscheiden, wodurch Halbleiterbauelemente gebildet werden können. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura® SA CVD Reaktor ist ein Single-Wafer Diffusionsreaktor, der genaue, ertragreiche Abscheidungs- und Ätzprozesse ermöglicht. Der Reaktor verwendet eine fortschrittliche, gepulste Stromquelle, um zuverlässige, wiederholbare Prozesse zu liefern, die Filme höherer Qualität ergeben. Die Temperaturregelung ist auch im CVD-Reaktor sehr präzise, mit der Fähigkeit, Temperaturen bis zu 1050 ° C (1922 ° F) genau und kontrollierbar zu erreichen. Die Reaktorkammer dient der direkten Strömungstechnik für eine verbesserte Gleichmäßigkeit und Partikelsteuerung. Es verfügt auch über eine In-situ-Überwachungsfunktion, die eine kontinuierliche Echtzeit-Prozessüberwachung ermöglicht, so dass der Benutzer alle notwendigen Änderungen vornehmen kann, ohne Zeit oder Materialien zu verschwenden. Die Innenwände des Reaktors sind mit einem speziellen feuerfesten Material beschichtet, das eine gleichmäßige Abscheidung gewährleistet. Der AMAT Centura® SA CVD Reaktor bietet zudem integrierte Automatisierungs- und Diagnosefunktionen für eine schnelle und einfache Prozessänderung. Das automatisierte Regelsystem des Reaktors steuert exakt mehrere Abscheidekammern, mit der Fähigkeit, Prozesszeiten und Temperaturen zu überwachen und bei Bedarf anzupassen. Darüber hinaus verfügt der Reaktor auch über erweiterte Diagnosefunktionen, die alle Probleme erkennen können, so dass eine schnelle und einfache Anpassung möglich ist. ANGEWANDTE MATERIALIEN Der Centura® SA CVD-Reaktor ist auf maximale Produktivität und Effizienz ausgelegt. Seine automatisierten Funktionen und die präzise Temperaturregelung sorgen für eine gleichmäßige Filmabscheidung über das gesamte Substrat, während seine intuitive Software perfekt für die schnelle und einfache Einrichtung, Steuerung und Überwachung mehrerer Abscheidekammern ist. Darüber hinaus wurden die erweiterten Diagnosefunktionen entwickelt, um kostspielige Ausfallzeiten zu vermeiden und höhere Erträge bei minimalem Abfall zu gewährleisten.