Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura TPCC #293749953 zu verkaufen
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ID: 293749953
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
System, 8"
Process: ISSG / DPN
SMIF
Chamber A (DPN):
Material: Al-Si Coating
RF Generator with power supply: 13.6 MHz, 20-1000 W
Manometer MKS: 13.3 / 1333 Pa
Manometer Torr: 1 / 10
Wafer cooling: He
ESC Wafer holding
Ground VDE
BOC EDWARDS / SEIKO SEIKI STP-A1603C Turbo pump: 1600 Litres/sec
No RGA Port
N2 MFC Size: 1slm
Chamber B (ISSG):
Toxic chamber with exhaust:
CHEMRAZ O-Ring
No RGA
No ISPM
No oxygen analyzer
Process capability:
Gasses: O2, Ar, He, N2, H2
Oxidation capability
GPM Controller
ISSG / RPN
No remote plasma
Chamber purge option:
0021-35008 Reflector plate
0200-36118 Edge ring, Si-C
0200-03425 Wafer cylinder
No reflector plate
Gas pallet:
O2 MFC: 5 / 20 slm
Ar / He MFC
N2: 1 MFC, 20 slm
H2: 3 MFC, 1 slm / 10 slm
Load lock / cassette:
(2) Chambers
Wide body
Universal cassette platform
Fast wafer mapping
Light tower: Red, yellow, green
Heat exchanger: Steelhead-3 (PM1)
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura TPCC (Thermal Processing & Chemical Chemical Vapor Deposition Reactor) ist eine hochentwickelte Abscheidungsanlage, die für die Herstellung von Dünnschichtmaterialien verwendet wird. Dieses System besteht aus einer Reaktionskammer, der Materialzufuhr, Abscheidestufe, Vakuumpumpe und einer Steuereinheit. Die Reaktionskammer ist eine zylindrische Kammer mit einem beheizten Suszeptor in der Mitte. Der Suszeptor dient zur Aufrechterhaltung einer gleichmäßigen Temperatur in der gesamten Kammer und besteht aus einer feuerfesten abgedeckten Grundplatte mit einer Reihe von Heizelementen. Es kann bis zu 1000 ° C erwärmt werden und die Wände werden isoliert gehalten, um sicherzustellen, dass die Temperatur gleichmäßig ist. Die Materialzufuhrmaschine besteht aus einer Reihe von Reaktoren, Öfen und Tiegeln, die zur Zufuhr von Material in die Reaktorkammer dienen. Das Einsatzmaterial kann in Form von Pulvern, Granulaten oder einer anderen Partikelform vorliegen. Diese Materialien werden erhitzt, verdampft und anschließend in die Reaktionskammer eingespritzt, wo eine chemische Reaktion zwischen den Materialien und den erhitzten Reaktionsgasen stattfindet. Die Abscheidestufe ist ein wesentlicher Bestandteil des Werkzeugs und besteht aus einer Anordnung von Quarzkristallfenstern, die die Abscheidung eines dünnen Films auf einem Substrat ermöglichen. Das Substrat wird in eine Zielposition gebracht und das Abscheidegas über die Quarzfenster auf das Substrat eingespritzt. Anschließend wird das Substrat erhitzt und der dünne Film darauf aufgewachsen. Die Vakuumpumpe der Anlage arbeitet mit einem niedrigen Druck, um die Abscheidung von Dünnschichtmaterialien zu ermöglichen und das Risiko von Partikeln auf dem Substrat zu verringern. Das Vakuum verhindert auch eine Oxidation der Materialien und liefert ein Medium, in dem es von einer Reaktionskammer zur anderen gelangen kann. Schließlich enthält das Modell eine Steuereinrichtung, um die Temperatur, die Leistung und andere Faktoren zu verwalten, die den Abscheidungsprozess beeinflussen. Das Steuerungssystem überwacht auch den Reaktionsfortschritt und ermöglicht es, bei Bedarf Anpassungen vorzunehmen, um die gewünschte Filmdicke zu erreichen. Abschließend ist AMAT Centura TPCC eine hochentwickelte Abscheideeinheit, die die Herstellung einer Vielzahl von Dünnschichtmaterialien erleichtert. Es besteht aus einer Reaktionskammer, Materialzufuhr, Abscheidestufe, Vakuumpumpe und einer Steuerungsmaschine, die zusammenwirken, um eine effiziente und genaue Abscheidung eines dünnen Films auf einem Substrat zu ermöglichen.
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