Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD #9063643 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9063643
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
Etcher, 8"
(2) Ultima chamber
(1) Ultima plus chamber
Technology :IMD
Wafer Size : 8"
Wafer Shape : SNNF (Semi Notch No Flat)
Software Version : B4.3.14
CHAMBER TYPE AND LOCATION
Ch A : Ultima HDP-CVD
Ch B : Ultima HDP-CVD
Ch C : Ultima + HDP-CVD
Ch E : Multislot Cool Down
Ch F : Orientor
CHAMBER A,B Ultima HDP-CVD :
Nozzle : Long/Long Side
Clean Gas Distribution : Baffle
Turbo Pump : Ebara ET1600WS w/ HVA
Wafer Temperature Monitoring : Yes
Top Gas Feed : Without Top O2
Dual Independent He Control : Standard 10/10 TORR
Clean Method : Microwave
CHAMBER C - Ultima + HDP-CVD :
Nozzle : Long/Long Side
Clean Gas Distribution : Baffle
Turbo Pump : Ebara ET1600WS w/ HVA
Wafer Temperature Monitoring : Yes
Top Gas Feed : Without Top O2
Dual Independent He Control : Standard 10/10 TORR
Clean Method : Top Mount
EXISTING ELECTRICAL REQUIREMENTS
Line Frequency : 60Hz
Line Voltage : 200/208V
Line Amperage : 600A Platform
EXISTING SAFETY EQUIPMENT :
EMO type : Turn to release EMO
EMO Guard Ring : Yes
System Labels : English w/Chinese Non-simplified
System Smoke Detector : Controller
EXISTING MAINFRAME :
Mainframe Type : Ultima HDP w/Multislot
Frame Type : Standard Frame
System Placement : Through the Wall
Mainframe Skins : No
Mainframe Exhaust Duct : No
Mainframe Facilities Connection : Back
Robot Type : HP Robot
Robot Blade : Ceramic
Loadlock Cassette : Narrow Body
Narrow body Loadlocks : Cassette Present Sensor
Loadlock Wafer Mapping : Basic
N2 Purge Type : STEC 4400MC 10 Ra Max
EXISTING GAS DELIVERY :
Gas Panel Surface Finish : Standard Gas Panel
MFC Type : STEC 4400MC 10 Ra Max
Valves : Fujikin 5 Ra Max
Filters : Pall Ni 10 Ra Max
Transducers : MKS w/ Display
Regulators : Veriflo
System Cabinet Exhaust : Top
Gas Panel Gas/Flow Direction Labels : Yes
APC Seriplex Cover : Yes
Gas Panel Doors : Solid
Gas Pallet Configuration :
Chamber A, B, C
Gas Stick/Process Gas/MFC size/Regulator/Transducer
#1 SiF4 100 Y Y
#2 O2 400 Y Y
#3 SiH4 200 Y Y
#4 Ar 300 Y Y
#5 SiH4 20 Y Y
#6 Ar 50 Y Y
#7 NF3 2000 Y Y
#8 Ar 2000 Y Y
REMOTES :
RF Generator Rack - Ultima Gen. Rack
ASTEX 80S09mW (3)
Quantity : Two
Ultima Stand-Alone RF Generator Rack : Yes
Generator Rack Cooling - RF Gen Rack Manifold with Quick Disconnect Ultima Gen Rack H20 Connection - Barbed Brass
Existing Heat Exchanger : SMC Thermo
Umbilicals :
System Controller Signal Cable Length : 55ft
RF Gen Rack Cable Length : 50ft
Ultima Stand-Alone Generator Rack : 98 ft
HX Hose Length : 50ft
HX Cable Length : 50ft
Pump Cable : 50ft
Ultima Microwave Generator Cable Length : 50 ft
Ultima WTM Cable Length : 32.8 ft (10m)
Vacuum Pumps, Exhaust Scrubber not included in sale
Currently crated and stored
System Can be inspected
1999-2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD (High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition) Reaktor ist ein modularer, kostengünstiger, vertikaler Ofen für die Produktion von hochvolumigen, hochdurchsatzreichen Dünnschichtmaterialien. Der Reaktor verfügt über ein innovatives patentiertes Design, das hohe Plasmadichten über ein großes Volumen nutzt und schnellere Abscheideraten und höhere Ausbeute ermöglicht. Die Technologie bietet auch geringe Parasiten und verbesserte Gleichmäßigkeit der Abscheidung, so dass es eine ausgezeichnete Wahl für den Einsatz in Anwendungen wie Solarzellen, Flachbildschirme, optische Beschichtungen und fortschrittliche Halbleiterbauelemente. Der AMAT Centura Ultima HDP CVD-Reaktor verwendet HF-gesteuertes Hochdichteplasma (HDP), um Reaktionen bei niedrigen Temperaturen voranzutreiben, was ihn energieeffizient und ideal für die Herstellung hochleistungsfähiger Dünnschichtbeschichtungen macht. Zudem entfallen viele der teuren Materialhandhabungs- und Reinigungsschritte, die traditionell mit CVD-Prozessen verbunden sind, was Kosten minimiert und den Gesamtertrag steigert. Das Gerät ist hochgradig konfigurierbar, so dass eine breite Palette von Plasmaquellen und Materialien - darunter Metall- und dielektrische Targets, dielektrische Verbindungen und Gasziele - in einer wählbaren Reihenfolge verwendet werden können. Das Herzstück von APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD Reaktor ist der Submodul, oder Arbeitsraum, der eine vollständig geschlossene Kammer mit einer einzigen Plasmaquelle und einem integrierten Gasversorgungssystem ist. Diese Gasversorgungseinheit sorgt dafür, dass der kontinuierliche Gasstrom im Abscheidungsprozess immer auf einem optimalen Niveau für genaue Ergebnisse ist. Ein zentral angebrachter Targethalter sorgt dafür, dass das zu beschichtende Substrat durch das Plasma ohne Behinderung für eine optimale Gleichmäßigkeit im Abscheidungsprozess gedreht wird. Das hochdichte Plasma, gekoppelt mit gleichmäßiger Abscheidung, sorgt dafür, dass die Temperatur des Substrats niedrig und gleichmäßig bleibt, wodurch die Eigenschaften des Materials erhalten bleiben und gleichzeitig eine qualitativ hochwertige, präzise strukturierte Abscheidung über die Oberfläche gewährleistet ist. Die fortschrittliche Steuerungssoftware der Maschine bietet eine intuitive Benutzeroberfläche, die eine präzise Kontrolle über Prozessparameter ermöglicht und eine gezielte Optimierung des Abscheidungsprozesses ermöglicht. Centura Ultima HDP CVD Reaktor ist eine ausgezeichnete Wahl für jede Produktionslinie mit modernster Dünnschichtabscheidung. Dank seines innovativen und kostengünstigen Designs ist die Produktion mit hohem Durchsatz kostengünstig und mit minimalem Overhead möglich. Das macht das Tool zu einer attraktiven Wahl für Industriehersteller, die das volle Potenzial der Dünnschichtabscheidung und der verbesserten Geräteleistung ausschöpfen möchten.
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