Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP #9176603 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP ist ein fortschrittlicher Mehrkammer-Prozessreaktor, der den Anforderungen der modernen Halbleiterherstellungsumgebung gerecht wird. Der Reaktor wurde entwickelt, um einen hohen Durchsatz mit fortschrittlichen CVD-Funktionen (Chemical Vapor Deposition) und einer Fülle von Automatisierungsoptionen zu bieten. Das Gerät ist für einen schnellen Durchsatz mit Rampenraten von bis zu 10.000 ° C/Minute ausgelegt und kann Drücke von bis zu 10 Torr bei niedrigen Innendrücken erzielen, was eine saubere Prozessumgebung gewährleistet. AMAT Centura Ultima HDP verfügt über Komponenten, die auf Dauer gebaut sind, einschließlich Siliziumkarbidwände und die neueste Quarz-Kristallresonator-Technologie, die Zuverlässigkeit und Wiederholbarkeit der Prozessparameter bietet. Angewandte Materialien CENTURA ULTIMA + HDP bietet dem Chemiker und Ingenieur Prozessflexibilität, mit einer Reihe von einstellbaren Parametern, die vom LCD-Touchscreen aus manipuliert werden können. Dieses Gerät gibt Ingenieuren die totale Kontrolle über den CVD-Prozess, so dass sie unterschiedliche Druck- und Temperaturprofile für jede Kammer einstellen können, mit einer gepulsten HF-Option für erhöhte Schrittrate und Abscheidungsgleichmäßigkeit. Dieses System ist für die Abscheidung von Oxiden, Nitriden und Folien auf Siliziumbasis konzipiert und eignet sich somit ideal für die Herstellung komplexer Halbleiterbauelemente. CENTURA ULTIMA + HDP verfügt auch über eine fortschrittliche Gasfördereinheit, die eine präzise Gasströmungsregelung bietet, mit der Fähigkeit, unterschiedliche Temperaturen für jedes Gas einzustellen, um Wiederholbarkeit und Konsistenz zu gewährleisten. Die Maschine verfügt auch über mehrere Sicherheitsmerkmale, einschließlich thermischer Sensoren und Überdruckentlastung, die Sicherheit im Falle einer Gasfreisetzung zu gewährleisten. Centura Ultima HDP bietet führende Abscheidefunktionen, so dass Ingenieure hochwertige Komponenten mit der für die heutigen Halbleiterbauelemente erforderlichen Konsistenz und Wiederholbarkeit herstellen können.