Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP #9183978 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP Reaktor ist eine branchenführende fortschrittliche Abscheideausrüstung, die speziell für den Einsatz hochwertiger fortschrittlicher Materialien im Halbleiterherstellungsprozess entwickelt wurde. Dieser Reaktor ermöglicht die Abscheidung komplexer Materialstapel mit überlegener Präzision und Leistung, bietet eine verbesserte Prozesssteuerung und ermöglicht die Herstellung der modernsten nanosisierten Geräte. AMAT Centura Ultima HDP hat einen modularen Aufbau mit einer erweiterten Palette von Komponenten, die eine flexible, skalierbare Lösung für moderne Produktionsanforderungen bieten. Es ermöglicht eine Vielzahl von Abscheidungstechniken, einschließlich organometallische chemische Dampfabscheidung (OMCVD), Niederdruck chemische Dampfabscheidung (LPCVD) und Plasma-verbesserte chemische Dampfabscheidung (PE-CVD) Techniken. Mit der höchsten verfügbaren Gleichmäßigkeit entworfen, ist APPLIED MATERIALS CENTURA ULTIMA + HDP in der Lage, eine optimale Schichtabscheidung ohne tote Flecken oder Schatten zu produzieren. Um die Abscheideleistung zu gewährleisten, ist das System mit einer multidialektischen Quarzkammer, verstellbaren Waferhaltern, einer Hochleistungs-Turbopumpe und einer Gasfördereinheit ausgestattet. Seine automatisierte Druck- und Gasflussregelmaschine ermöglicht eine präzise Materialsteuerung, wiederholbare Prozessergebnisse und überlegene Genauigkeit. Centura Ultima HDP verwendet auch ein innovatives Temperaturregelwerkzeug, um die Temperatur von Wafern genau zu überwachen und anzupassen. Dies ermöglicht eine verbesserte Temperaturgleichmäßigkeit, präzise und reproduzierbare Ergebnisse, erhöhte Zeitersparnis und bessere Prozesserträge. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura Ultima HDP ist auch in der Lage, schnellere Wachstumsraten zu erzielen, mit schnelleren Zykluszeiten als viele andere Abscheidungssysteme und bietet auch einen hohen Durchsatz. Dies ermöglicht eine kleinere Geräteherstellung, höhere Präzisionsschichten und geringeren Materialverlust. Die erweiterten Prozesssteuerungsoptionen umfassen Wafer-Chucking, Basisplattentemperatur und Vorspannüberwachung und Multiplexing, was seine Fähigkeiten weiter erhöht. AMAT CENTURA ULTIMA + HDP ist ideal für die Skalierung von Technologien auf Submikron- und Nanometerebene und somit eine ideale Wahl für eine breite Palette fortschrittlicher Materialien und Anwendungen. Dank seiner Genauigkeit und Zuverlässigkeit ist es die ideale Lösung für fortschrittliche Halbleiterherstellungsprozesse und trägt dazu bei, dass Produkte höchster Qualität mit höchster Effizienz hergestellt werden.