Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP #9189127 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP ist ein Reaktor, der für hochdichte Plasmaabscheidungsprozesse (HDP) zur Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Die HDP-Ausrüstung erzeugt ein ultradichtes, homogenes und Tieftemperatur-Plasmapotential, das die Gleichmäßigkeit und Qualität der Filmabscheidung verbessert. Das HDP-System verfügt zudem über eine hohe Leistungsdichte und bietet eine präzise Ionenflussregelung, einen robusten Betrieb und eine hervorragende Gleichmäßigkeit. Darüber hinaus verfügt AMAT Centura Ultima HDP über ein fortschrittliches Plasmaquellendesign, das eine breite Palette von Plasmachemistries ermöglicht. Die HDP-Einheit ist für die Herstellung mit hohem Durchsatz konzipiert und bietet sehr schnelle Verarbeitungszeiten. Der HDP-Reaktor ist für die hochdichte Prozessabscheidung (HDP) entwickelt und ermöglicht die Anwendung einer Vielzahl von Filmen, einschließlich dünner Gate-Oxide, Gate-Stapelfilme, Gate-Spacer, Gate-Line-Erweiterungen und Silizide. Zusätzlich ermöglicht das Plasmaquellendesign von APPLIED MATERIALS CENTURA ULTIMA + HDP eine präzise Ionen- und Ätzprozesssteuerung, die eine schnelle und präzise Ionenfluss- und Ätzratenkontrolle gewährleistet, die kritische Dimensionsschwankungen minimiert, die Partikelverschmutzung reduziert und die feine Linienauflösung verbessert. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ULTIMA + HDP ist sowohl benutzerfreundlich als auch ressourceneffizient konzipiert und verfügt über eine intuitive Softwareschnittstelle und eine geschlossene Prozesssteuerung. Diese integrierte Prozesssteuerung sorgt für einen effizienten Betrieb, eine optimale Prozessleistung und eine verbesserte Geräteausbeute. Das automatisierte Maschinendesign des HDP-Reaktors ermöglicht auch die Fernüberwachung und vollständige Rückverfolgbarkeit, um Ausfallzeiten zu reduzieren und die Effizienz zu verbessern. Centura Ultima HDP verfügt auch über erweiterte Prozessüberwachungs- und Steuerungsfunktionen, die eine dynamische Prozessanpassung ermöglichen, die eine präzise Kontrolle der Prozesschemie, der Maskentemperatur und der Oberflächenschäden während des gesamten Prozesses ermöglicht. Darüber hinaus bietet das Tool fortschrittliche Diagnosetools wie Profil und Partikelüberwachung an, um die Anwender bei der Anpassung und Optimierung von Prozessparametern für eine verbesserte Geräteleistung zu unterstützen. CENTURA ULTIMA + HDP ist ein hochmodernes Gut zur Abscheidung von hochdichten Plasmafilmen für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es bietet präzise Ionenfluss- und Ätzratenkontrolle, schnelle Prozesszeiten, effizienten Betrieb und fortschrittliche Prozessüberwachung für verbesserte Geräteerträge. Das Modell ist auf Benutzerfreundlichkeit, Ressourceneffizienz und Gesamtprozessoptimierung ausgelegt und somit eine ideale Lösung für moderne HDP-Abscheidungsanforderungen.