Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP #9223731 zu verkaufen
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ID: 9223731
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
CVD System, 8"
System general:
Mainframe: Centura 5200 DCVD
Wafer type: Notch
Chamber position A, B, C: HDP Ultima plus chamber, 8"
Chamber E position: Multi-slot cool down chamber
Chamber F position: Wafer orienter chamber
System controllers:
SBC V452 Board
VGA Board
P3 Board
Facility and safety configurations:
EMO Switch type: Turn to release EMO
EMO Guard ring
EMO Shunt trip
Bracket standoff adapter
Water and smoke detect output: Alarm
Facility power indicator
System water leak detector
Main frame:
Facilities type: Phase II
System placement: Stand alone
Front panel: Steel white polymer finish
Facilities connection: VCR
Facilities orientation: Mainframe facilities bottom connection
Facilities water: Phase II water
Controller IO interface option: I/O Expansion base card with seriplex gas panel card
Interface: GEM Interface
Load lock chamber type: Narrow body
Transfer chamber:
Transfer chamber manual lid lift
Transfer chamber sensor
Process chamber slit valve A, B, C: Bonded door with KALREZ O'ring
Robot type: HP+ Robot (Dual speed)
Basic wafer on blade detector
N2 Purge MFC type: Unit instrument (UFC-1661) 1L
Buffer purge slow vent flow: 500 sccm
Dedicated transfer rough pump: EDWARDS Pump interface
Mainframe inert gas lines:
Chamber N2 supply
Chambers N2 surface finish: 10 Ra
Mainframe N2 supply
Mainframes N2 surface finish: 10 Ra
Chamber A configuration:
Type: HDP Ultima plus chamber
Frequency type: Top, side and bias RF
Heater type: 0190-46458
Thermalogic board
Manometer type: DUAL 10/100 TORR MKS
Throttle valve: Turbo throttle valve plus rough throttle valve
Gate valve type: 3870-04276, Pendulum ISO250 (Actuator 52.3)
Turbo pump type: EBARA ET1600W
Turbo pump controller: 1604W
Turbo pump ring type:
0010-11762, CTR Ring assy, HDP-CVD Ultima plus
Chamber O'ring type: KALREZ 9100
Clean method: RPS
0190-26744, MKS Astroni AX7670
Clean gas: NF3
Chamber A process kit:
0010-03090 ESC Cathode (WTM Type)
0040-18219 ESC (WTM Type)
0190-18430 WTM Probe
0200-18109 Collar
0200-18081 Cover ceramic
0200-01009 Top nozzle
0200-18093 Side nozzle
0200-01006 Dome
0040-04650 Gas ring with (24) nozzles
0200-40156 Lift pin ceramic
Chamber B configuration:
Type: HDP Ultima plus chamber
Frequency type: Top, side and bias RF
Heater type: 0190-46458 Thermalogic board
Manometer type: Dual 10/100 TORR MKS
Throttle valve: Turbo throttle valve plus rough throttle valve
Gate valve type
3870-04276, Pendulum ISO250 Actuator 52.3
Turbo pump type: EBARA ET1600W
Turbo pump controller: 1606W TF
Turbo pump ring type:
0010-11762, CTR Ring assy, HDP-CVD Ultima plus
Chamber o ring type: KALREZ 9100
Clean method: RPS
0190-26744RPS, MKS Astroni AX7670
Clean gas: NF3
EDWARDS Rough pump interface
0010-03090 ESC Cathode (WTM Type)
0040-18219 ESC (WTM Type)
0190-18430 WTM Probe
0200-18109 Collar
0200-18081 Cover ceramic
0200-01009 Top nozzle
0200-18093 Side nozzle
0200-01006 Dome
0040-04650 Gas ring with (24) nozzles
0200-40156 Lift pin ceramic
Gas panel configurations:
Gas panel type: HP 10 Ra
Cabinet exhaust: Top exhaust
Gas panel door
Gas feed: Single-line drop (Bottom feed)
Valve type: FUJIKIN 5 Ra max
Filter: MILLIPORE Ni 10 ra max
Fitting: VCR
MFC: SEC-4400 MC (D-Sub 9 pins)
Veriflo Regulator
MKS Transducer with display unit
Gas line configuration chamber A, B, C:
Gas pallet: HDP Ultima plus
Gas feed: Single-line drop (Bottom feed)
Automatic gas line purging capability
Gas 1: SiH4, 200 sccm
Gas 2: NF3, 2000 sccm
Gas 3: SiH4 Top, 20 sccm
Gas 4: SIF4, 20 sccm
Gas 5: AR Top, 50 sccm
Gas 6: AR, 300 sccm
Gas 7: HE, 200 sccm
Gas 8: SIF4, 100 sccm
Gas 9: O2, 400 sccm
Gas 10: AR-MW, 2000 sccm
System controller:
Controller Type: Phase I Controller
Controller GFCI: 30MA GFCI
Controller UPS: Facilities ups interface
Controller electrical interface: Top feed AC cables
Controller exhaust: Top exhaust
Cursor type: Blinking cursor
Heat exchanger type:
SMC Themo chiller, INR-498-001D
Heat exchanger water fittings: Stainless steel
Generator rack:
Chamber A, B, and C top RF generator: ENI NOVA-50A
Chamber A, B and C side RF generator: ENI NOVA-50A
Chamber A, B and C bias RF generator: ENI GHW-50A
Power: 200/208 VAC, 50 Hz, 400 A
2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP Reactor ist ein fortschrittliches Werkzeug in der Welt des Dry-in-Place Ätzens und konformer Beschichtung. Diese Ausrüstung wurde entwickelt, um Herstellern eine hohe Präzision bei minimalem Aufwand und minimaler Komplexität zu ermöglichen. Das HDP steht für High-Density Plasma, die neueste Plasma-Technologie, die die höchste Leistung und Zyklus-Zeit-Kontrolle über eine Vielzahl von Prozessen bietet. AMAT Centura Ultima HDP Reactor erfüllt die immer komplexeren Anforderungen der Halbleiterhersteller weltweit. Die fortschrittlichen Funktionen und die modulare Architektur des Systems ermöglichen eine schnelle Implementierung, Flexibilität und Skalierbarkeit für eine Vielzahl von Anwendungen. Dazu gehören ultradünne konforme Beschichtung, tiefes reaktives Ionenätzen (DRIE), galvanisches Kupferabheben (ECLO) und andere Anwendungen. Angewandte Materialien CENTURA ULTIMA + HDP Reaktor bietet hohe Produktivität mit optimiertem Durchsatz und Zykluszeitkontrolle. Die Multifrequenz-HF-Plasmaquelle und die wassergekühlte Kathode ermöglichen eine geringe Steuerung der Funktionsgröße und eine geringe Filmspannung, während die linearen Massendurchflussregler eine präzise Steuerung der Prozessgase ermöglichen. Seine modulare Architektur ermöglicht es, es mit minimalen Unterbrechungen umkonfiguriert werden und konfiguriert in mehreren Kammern ermöglicht eine schnelle und genaue Verarbeitung einer Vielzahl von Teilen parallel. Der HDP-Reaktor bietet neueste Fortschritte in der Plasmaquellentechnologie, um Ätz- und konforme Beschichtungsprozesse zu optimieren. Die neu entworfene Plasmaquelle und -kammer erlauben ein hochgradiges Ätzen und Beschichten. Die erweiterten Prozesssteuerungsfunktionen des HDP-Reaktors helfen bei der Erzielung enger Prozessverteilungen und verringern den manuellen Anpassungsbedarf der Bediener. Die Echtzeit-Prozessüberwachung ermöglicht schnelle Entscheidungen und schnelle Korrekturmaßnahmen. Diese Maschine verfügt über eine integrierte intelligente Diagnose für schnelles Fehlerfeedback und minimale Ausfallzeiten. Seine Online-Simulationsmöglichkeiten ermöglichen es Benutzern, ein Rezept schnell zu optimieren und notwendige Änderungen ohne lange Rüstzeiten vorzunehmen. Darüber hinaus kann mit seiner Datenausgabe relevante Prozessdetails erfasst und die Prozessüberwachungsfunktionen verbessert werden. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ULTIMA + HDP Reactor ist das neueste und fortschrittlichste Werkzeug in der Welt des Dry-in-Place-Ätzens und konformer Beschichtung. Dieses Tool wurde für Halbleiterhersteller entwickelt, die eine zuverlässige und effiziente Ressource mit hoher Präzision und Wiederholbarkeit suchen. Die erweiterten Funktionen und die modulare Architektur ermöglichen eine schnelle Implementierung und Skalierbarkeit, so dass es mit minimalen Unterbrechungen neu konfiguriert und in mehreren Kammern konfiguriert werden kann, um eine Vielzahl von Anwendungen abzudecken. AMAT CENTURA ULTIMA + HDP Reactor bietet eine hohe Produktivität und ist mit den neuesten Fortschritten in der Plasmaquellentechnologie ausgestattet, so dass Anwender die für komplexe Prozesse erforderliche Präzision erreichen können.
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