Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima Plus #9158337 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9158337
Wafergröße: 8”
HDP Chamber, 8”
Includes:
Chamber interface parts
Gas pallet
QTY DESCRIPTION P/N
Upper chamber LID:
(1) RPS AX7670-02,06,16,19
(1) RPS Mount kit
(1) AL Gas line 0050-62134
(1) SiH4 Gas line 0050-46867
(1) Top heater 0035-00123
(1) Ceramic dome
(1) ALN Plate modification
(1) Balanced side match modification
(1) DTCU Modification
(1) Cap bank assy 0010-06403
(1) PLC Kit
(1) Ultima plus cover 0010-19262
(1) Top baffle 0200-01009
(0) Nozzles
(1) Top clean feed through 0040-86016
(1) Hinge assy
Lower chamber body:
(1) T/V Body 0020-18273
(1) Turbo throttle valve
(1) Turbo throttle Driver 0010-01369,19238
(1) Rough throttle valve 0010-09035
(1) Turbo isolation valve 3870-00117
(1) Fore line and gas line
(1) Bias match
(1) Ceramic collar 0200-18109
(1) Ceramic cover 0200-18081
(1) Cathode assy
(1) Cathode misc
(1) ESC Refurbish
(1) NC Gate valve 3870-00037
(2) RF Coaxial cable 0190-18062
(1) Ebara 1600 Turbo pump / Controller ET1600
(1) 1000 Torr manometer 1350-01131
(1) 50T Interlock switch 1270-01814 (E48W-H38)
(1) Chamber XDCR press .10-100TORR Ass'y 1320-01284 (CV7627A-05)
(1) Frorline XDCR press 10TORR Ass'y 1350-01285
(2) Gas spring 3780-02273
(1) Seal assy 3700-02320
(1) Throttle valve teflon ring 0200-18268
(1) Dual he manifold (4 Valve) 0050-40927
(1) DUAL IHC ASS'Y
(1) ORING
(1) Forline isolation valve 3870-02890 (KAV-150-P-10)
Main frame:
(1) Chamber pneumatic assy 0010-17301
(1) Chamber tray bd 0100-18062 or 18064/65
(1) Chamber tray kit 0242-01931
(1) AC Box kit 0242-70228
Generator:
(1) ENI Generator rack
(1) Seriplex bd 0190-35765/0190-35651
(1) Distribution bd 0100-18043
(1) Seriplex back plane 0190-09286
(1) Cardcage
Gas panel:
(1) Gas panel
(1) Gas panel refurbish
(1) Seriplex bd 0190-35653/0190-35762/0190-35651
(1) Distribution bd 0100-35124
(1) Seriplex back plane 0190-09286
(1) Cardcage
MISC:
(1) Clean, fitting, clamp
(1) Chamber frame
(1) MISC (GFCI, cable, accessory).
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima Plus ist ein hochmoderner Ätz- und Abscheidungsreaktor, der für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente entwickelt wurde. Diese automatisierte Ausrüstung bietet eine überlegene Leistung, einen verbesserten Durchsatz und eine höhere Gleichmäßigkeit als die Vorgänger. Die Reaktorkammer ist extrem vakuumdicht ausgebildet, so dass sie bei Basisdrücken 5E-7 Torres arbeiten kann, mit einer Kapazität, um Drücke so niedrig wie 1E-8 Torr zu erreichen. AMAT Centura Ultima Plus bietet auch eine breite Palette von Temperatureinstellungen, bis zu 900 ° C, und ist kompatibel mit einer Vielzahl von Ätz- und Abscheidungsgasen, einschließlich Wasserstoff, Chlor, Stickstoff, Sauerstoff und Argon. Das automatisierte Wafer-Handling-System dieses Reaktors sorgt dafür, dass Wafer sicher und effizient übertragen werden. Es bietet sowohl Einzelwafer- als auch Stapelverarbeitung, sodass der Bediener mehrere Ätzprozesse nacheinander einrichten kann. Ein-Wafer-Scan-Fähigkeit ermöglicht eine hochauflösende Steuerung und Verarbeitung jedes Wafers einzeln. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura Ultima Plus bietet auch eine fest installierte Trockenvakuumpumpeinheit, die einen zuverlässigen Betrieb ohne Wartung ermöglicht. Die Basisvakuumpumpe ermöglicht auch ultraschnelle Abpumpzeiten, wodurch Verarbeitungszeiten bis zu 90% schneller als herkömmliche Ätz- und Abscheideprozesse sein können. Dieser Reaktor bietet auch eine Reihe von zusätzlichen Funktionen zur Förderung der Genauigkeit, Sicherheit und Bedienungsfreundlichkeit. Dazu gehören eine Flüssigkeitsquellen-Rezirkulations- und Messmaschine, eine integrierte Filter- und Ventileinheit sowie eine programmierbare Logiksteuerung (SPS) und ein Datenerfassungswerkzeug, mit dem Anwender alle Reaktorparameter und Prozessdaten in Echtzeit überwachen können. Insgesamt ist Centura Ultima Plus ein hocheffizienter, automatisierter Ätz- und Abscheidungsreaktor, der eine überlegene Prozesssteuerung und einen wiederholbaren Durchsatz bietet. Das Gerät wurde mit Blick auf Sicherheit und Kosten konzipiert und bietet die leistungsstarken Funktionen, die zur Unterstützung fortschrittlicher Halbleiterherstellungsprozesse erforderlich sind.
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