Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE #116326 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 116326
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1998
CVD-HDP system, 8"
Wafer shape: SNNF
SMIF: no
Chamber A: Ultima TE
Chamber B: Ultima STD
Chamber E: MS cool
Chamber F: orienter
Load lock type: wide body
Chamber A:
Nozzle: Side 24 ALN
Top baffle: 4 hole ALN
Turbo pump: STP-XH 2603P
Dual independent He Control: Standard 10/10 Torr
Clean method: Top Mount RPS AE
ESC: without WTM
Chamber B:
Nozzle: Side 24 ALN
Top baffle: 1 hole ALN
Turbo pump: ET1600WS
Dual independent He Control: Standard 10/10 Torr
Clean method: microwave
ESC: without WTM
Electrical:
Line frequency: 50/60Hz
Line voltage: 200/208V
Line amperage: 320A
Facility UPS interface: yes
GFCI: 100MA
System monitor:
1st: TTW
2nd: stand alone
3rd: yes
Mainframe:
System placement: TTW
Robot type: extended HP robot
Robot blade: ceramic
Load lock wafer mapping: enhanced
Load lock slippage sensor: yes
N2 purge type: STEC 4400M
Generator rack:
ETO 80-S09-uW
ENI AM200
Ch. A: Top / side / bias
Ch. B: Top / side / bias
(2) Heat exchangers:
1: SMC
2: AMAT 1
Umbilicals: 55ft
Dry pumps:
Chamber A: under cleaning
Chamber B: under cleaning
Load lock
Transfer
Gas delivery option:
VALVES: FUJIKIN 5 Ra max.
Filters: Pall
Transducers: MKS with display
Regulators: VeriFlo
Single line drop (SLD): yes
SLD gas lines feed: top
System cabinet exhaust: top
Gas pane configuration:
Chamber A:
O2 500sccm UNIT 8161
AR 300sccm HORIBAR
SiH4 200sccm STEC 7400
H2 1slm STEC 7400
HE 400sccm STEC 7400
SiH4 50sccm STEC 7400
H2 1slm STEC 7400
HE 400sccm STEC 7400
AR 1slm STEC 7400
NF3 2lm UNIT 8161
Chamber 4:
O2 400sccm STEC 7440
AR 300sccm STEC 7440
SiH4 200sccm HORIBAR
50%PH3/SiH4 200sccm STEC 7440
AR 50sccm STEC 7440
SiH4 20sccm STEC 7440
50%PH3/SiH4 20sccm STEC 7440
NF3 2slm HORIBAR
AR 2slm STEC 7440
O2 not shown
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE (Tri-Energy) ist ein Halbleiterverarbeitungsreaktor zur Abscheidung von Halbleitermaterialien. Der Reaktor verfügt über eine einzigartige Tri-Energy (TE) -Ausrüstung, die einen hohen Durchsatz unter Beibehaltung einer hohen Prozessgleichförmigkeit bietet. Das dreistufige Heizsystem sorgt für mehr Genauigkeit und Wiederholbarkeit als je zuvor und ermöglicht höchste Ausbeute und Zuverlässigkeit. AMAT Centura Ultima TE ist in der Lage, Ultra-Hochtemperatur-Abscheidung. Es verwendet eine Hochfrequenz (RF) -Einheit, um den Wafer mit einer genau zugeschnittenen Kombination aus induktiver, konvektiver und strahlender Heizung zu erwärmen. Dadurch kann der Reaktor mit flüchtigen und reaktiven Materialien umgehen, die in Hochtemperaturprozessen verwendet werden, und Abscheidungsschichten mit überlegenen elektrischen und thermischen Eigenschaften erhalten. Darüber hinaus weist der Reaktor eine einzigartige Zweimoden-Inertauskleidung auf, die die Komponenten vor Abscheidung von Nebenprodukten und Rückständen schützt. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura Ultima TE kommt auch mit eingebauter Hardware und Software, die den Prozess noch einfacher und präziser machen. Die TE-Maschine verwendet einen intuitiven Touchscreen-Controller an Bord, der es dem Benutzer ermöglicht, die verschiedenen Abscheidungsschritte schnell und genau durchzuführen. Darüber hinaus ist das TE-Tool in der Lage, mit anderen Instrumenten und Systemen zu interagieren und dem Anwender eine präzise Kontrolle über den gesamten Prozess zu geben. Der Reaktor verfügt über eine Vielzahl von Optionen, die ihn zu einem vielseitigen und leistungsstarken Werkzeug im Labor oder im Produktionsbereich machen. Es kann konfiguriert werden, um eine Reihe von Schichtwachstum und Abscheidungsgeschwindigkeiten zu handhaben, von ultraschnell bis langsam und stabil. Darüber hinaus unterstützen seine weitreichende Temperaturregelung und hochwertige Beschichtungen eine Vielzahl von Materialsystemen und -prozessen, wie Wasserstoff Terminated Diamond (HTD), Solution Growth Templates (SGT) und Atomic Layer Deposition (ALD). Centura Ultima TE ist ein fortschrittlicher Reaktor, der hervorragende Leistung und hervorragende Ergebnisse für die Halbleiterindustrie bietet. Die fortschrittliche Heizanlage sorgt für hohe Prozessgleichmäßigkeit und Erträge. Die Schnittstelle zu anderen Systemen ermöglicht eine präzise Steuerung des gesamten Prozesses. Seine verschiedenen Materialabscheidungsmöglichkeiten geben ihm die Vielseitigkeit und die Kraft, eine breite Palette von Abscheidungsanwendungen zu handhaben. Darüber hinaus ist der intuitive Touchscreen-Controller und das inerte Dual-Mode-Futter ein zuverlässiges und sicheres Werkzeug. Alle diese Eigenschaften kombinieren, um AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE die beste Wahl in Halbleiterverarbeitungsreaktoren zu machen.
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