Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE #116326 zu verkaufen

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ID: 116326
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1998
CVD-HDP system, 8" Wafer shape: SNNF SMIF: no Chamber A: Ultima TE Chamber B: Ultima STD Chamber E: MS cool Chamber F: orienter Load lock type: wide body Chamber A: Nozzle: Side 24 ALN Top baffle: 4 hole ALN Turbo pump: STP-XH 2603P Dual independent He Control: Standard 10/10 Torr Clean method: Top Mount RPS AE ESC: without WTM Chamber B: Nozzle: Side 24 ALN Top baffle: 1 hole ALN Turbo pump: ET1600WS Dual independent He Control: Standard 10/10 Torr Clean method: microwave ESC: without WTM Electrical: Line frequency: 50/60Hz Line voltage: 200/208V Line amperage: 320A Facility UPS interface: yes GFCI: 100MA System monitor: 1st: TTW 2nd: stand alone 3rd: yes Mainframe: System placement: TTW Robot type: extended HP robot Robot blade: ceramic Load lock wafer mapping: enhanced Load lock slippage sensor: yes N2 purge type: STEC 4400M Generator rack: ETO 80-S09-uW ENI AM200 Ch. A: Top / side / bias Ch. B: Top / side / bias (2) Heat exchangers: 1: SMC 2: AMAT 1 Umbilicals: 55ft Dry pumps: Chamber A: under cleaning Chamber B: under cleaning Load lock Transfer Gas delivery option: VALVES: FUJIKIN 5 Ra max. Filters: Pall Transducers: MKS with display Regulators: VeriFlo Single line drop (SLD): yes SLD gas lines feed: top System cabinet exhaust: top Gas pane configuration: Chamber A: O2 500sccm UNIT 8161 AR 300sccm HORIBAR SiH4 200sccm STEC 7400 H2 1slm STEC 7400 HE 400sccm STEC 7400 SiH4 50sccm STEC 7400 H2 1slm STEC 7400 HE 400sccm STEC 7400 AR 1slm STEC 7400 NF3 2lm UNIT 8161 Chamber 4: O2 400sccm STEC 7440 AR 300sccm STEC 7440 SiH4 200sccm HORIBAR 50%PH3/SiH4 200sccm STEC 7440 AR 50sccm STEC 7440 SiH4 20sccm STEC 7440 50%PH3/SiH4 20sccm STEC 7440 NF3 2slm HORIBAR AR 2slm STEC 7440 O2 not shown 1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE (Tri-Energy) ist ein Halbleiterverarbeitungsreaktor zur Abscheidung von Halbleitermaterialien. Der Reaktor verfügt über eine einzigartige Tri-Energy (TE) -Ausrüstung, die einen hohen Durchsatz unter Beibehaltung einer hohen Prozessgleichförmigkeit bietet. Das dreistufige Heizsystem sorgt für mehr Genauigkeit und Wiederholbarkeit als je zuvor und ermöglicht höchste Ausbeute und Zuverlässigkeit. AMAT Centura Ultima TE ist in der Lage, Ultra-Hochtemperatur-Abscheidung. Es verwendet eine Hochfrequenz (RF) -Einheit, um den Wafer mit einer genau zugeschnittenen Kombination aus induktiver, konvektiver und strahlender Heizung zu erwärmen. Dadurch kann der Reaktor mit flüchtigen und reaktiven Materialien umgehen, die in Hochtemperaturprozessen verwendet werden, und Abscheidungsschichten mit überlegenen elektrischen und thermischen Eigenschaften erhalten. Darüber hinaus weist der Reaktor eine einzigartige Zweimoden-Inertauskleidung auf, die die Komponenten vor Abscheidung von Nebenprodukten und Rückständen schützt. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura Ultima TE kommt auch mit eingebauter Hardware und Software, die den Prozess noch einfacher und präziser machen. Die TE-Maschine verwendet einen intuitiven Touchscreen-Controller an Bord, der es dem Benutzer ermöglicht, die verschiedenen Abscheidungsschritte schnell und genau durchzuführen. Darüber hinaus ist das TE-Tool in der Lage, mit anderen Instrumenten und Systemen zu interagieren und dem Anwender eine präzise Kontrolle über den gesamten Prozess zu geben. Der Reaktor verfügt über eine Vielzahl von Optionen, die ihn zu einem vielseitigen und leistungsstarken Werkzeug im Labor oder im Produktionsbereich machen. Es kann konfiguriert werden, um eine Reihe von Schichtwachstum und Abscheidungsgeschwindigkeiten zu handhaben, von ultraschnell bis langsam und stabil. Darüber hinaus unterstützen seine weitreichende Temperaturregelung und hochwertige Beschichtungen eine Vielzahl von Materialsystemen und -prozessen, wie Wasserstoff Terminated Diamond (HTD), Solution Growth Templates (SGT) und Atomic Layer Deposition (ALD). Centura Ultima TE ist ein fortschrittlicher Reaktor, der hervorragende Leistung und hervorragende Ergebnisse für die Halbleiterindustrie bietet. Die fortschrittliche Heizanlage sorgt für hohe Prozessgleichmäßigkeit und Erträge. Die Schnittstelle zu anderen Systemen ermöglicht eine präzise Steuerung des gesamten Prozesses. Seine verschiedenen Materialabscheidungsmöglichkeiten geben ihm die Vielseitigkeit und die Kraft, eine breite Palette von Abscheidungsanwendungen zu handhaben. Darüber hinaus ist der intuitive Touchscreen-Controller und das inerte Dual-Mode-Futter ein zuverlässiges und sicheres Werkzeug. Alle diese Eigenschaften kombinieren, um AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE die beste Wahl in Halbleiterverarbeitungsreaktoren zu machen.
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