Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima X #116359 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima X Reaktor ist ein spezialisiertes Werkzeug für die Hochleistungsmaterialabscheidung und -verarbeitung. Dieser Reaktor ist für den Einsatz in einer Vielzahl von Halbleiterherstellungsanwendungen ausgelegt, einschließlich der Herstellung von Feldeffekttransistoren (FET) und der Abscheidung von dünnen Schichten. Im Vergleich zu herkömmlichen Abscheidungssystemen bietet die Ultima X eine Reihe von Vorteilen, darunter höhere Durchsätze und kleinere Merkmalsgrößen. Der Ultima X Reaktor ist ein vertikales, ungebundenes Werkzeug, d.h. die gesamte Kammer ist auf einer einzigen Bodenplatte montiert, um Verschmutzungen zu minimieren. Es verfügt über zwei unabhängige Ätz-/Abscheidungsprozesskammern, darunter eine Hochleistungs-Plasma-verbesserte chemische Dampfabscheidungskammer (PECVD) und eine niederohmige physikalische Dampfabscheidungskammer (PVD), die die Möglichkeit bietet, die Prozessbedingungen in jeder Kammer individuell zu steuern. So bietet die PECVD-Kammer einen Bereich von Höchsttemperaturen von 350 bis 600 Grad Celsius und einen Prozessgasdruckbereich von 16 bis 300 Torr. Die PVD-Kammer hat Temperaturen bis 400 Grad Celsius und einen Prozessgasdruck von 1 bis 10 Torr. Die Ultima X verfügt auch über eine Lastverriegelungseinrichtung, die die Verarbeitung von Substraten (typischerweise Siliziumscheiben) ermöglicht, ohne Umgebungsluft ausgesetzt zu sein. Dadurch wird sichergestellt, dass die Substrate vor Eintritt in die Prozesskammer eine minimale Verschmutzung aufweisen. Darüber hinaus unterstützt das Ultima X fortschrittliche Lithographietechniken wie die Doppelbelichtungslithographie und die Waferorientierungssensorik, mit denen Stufen- und Wiederholungsprozessmuster ermöglicht werden. Neben einer hervorragenden Leistung bietet das Ultima X-System eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, wie eine automatisierte Notabschalteinheit bei Prozessfehlern und eine Drucküberwachungsmaschine, die verhindert, dass das Werkzeug außerhalb bestimmter Prozessparameter arbeitet. Es gibt auch ein integriertes Passivierungsmittel für die Oberflächen der Hauptkammer, das hilft, die Chancen von Partikeln oder Rückständen zu reduzieren. Abschließend ist der AMAT Centura Ultima X Reaktor ein fortschrittliches Werkzeug für die Hochleistungs-Halbleiterherstellung. Dank seiner fortschrittlichen Ätz- und Abscheideprozesse bietet es höhere Durchsätze und kleinere Funktionsgrößen als viele andere Systeme. Es verfügt auch über mehrere Sicherheitsmerkmale, so dass es sicher und kontrolliert arbeitet.