Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima X #9107256 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9107256
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2003
CVD System, 12"
Wafer Shape JMF
Position A ULTIMA X HDP-CVD
Position B ULTIMA X HDP-CVD
Position C ULTIMA X HDP-CVD
Position D NA
Position A Process OXIDE - USG / STI
Position B Process OXIDE - USG / STI
Position C Process OXIDE - USG / STI
Position D Process NA
Line Voltage 208 VAC
Line Amperage PRIMARY 320A, SECONDARY 240A
(A) ULTIMA X HDP-CVD
Ultima X Chamber Options Selected Option
Integrated Process Module IPM : YES
Turbo Pump TMP-3203LMC-A1
Nozzle Type
Gas Ring 36 PORT
Top Baffle
Upper Chamber ENHANCED
Process Application USG / STI
Process Kit STANDARD
Clean Method NPP RPS (NEW POWER PLASMA)
Independent Helium Cooling ENABLED
(B) - (Z7) ULTIMA X HDP-CVD
Ultima X Chamber Options Selected Option
Integrated Process Module IPM : YES
Turbo Pump TMP-3203LMC-A1
Nozzle Type
Gas Ring 36 PORT
Top Baffle
Upper Chamber ENHANCED
Process Application USG / STI
Process Kit STANDARD
Clean Method NPP RPS (NEW POWER PLASMA)
Independent Helium Cooling ENABLED
(C) - (Z7) ULTIMA X HDP-CVD
Ultima X Chamber Options Selected Option
Integrated Process Module IPM : YES
Turbo Pump TMP-H3603LMC-A1
Nozzle Type
Gas Ring 36 PORT
Top Baffle
Upper Chamber ENHANCED
Process Application USG / STI
Process Kit STANDARD
Clean Method NPP RPS (NEW POWER PLASMA)
Independent Helium Cooling ENABLED
Gas Delivery Options
Gas Panel Selected Option
Gas Feed BOTTOM
Gas Panel Exhaust BOTTOM
MFC Type UNIT 8565 & 8565C
Gas Panel Door STANDARD
Valves VERIFLO
Display Gas Pallets
Gas Lines
Transducers NONE
Regulators NONE
Filters Millipore/Mykrolis/NAS Clean
A - (Z7) ULTIMA X HDP-CVD PALLET Selected Option
Gas Pallet
Line 1 Upper N2 PURGE
Line 1 Lower O2 - 1L
Line 2 H2 (MFC Missing)
Line 3 HE - 600SCCM
Line 4 SiH4 - 400SCCM
Line 5 AR - 1L
Line 6 HE - 600SCCM
Line 7 H2 - 1L
Line 8 SiH4 - 50SCCM
Line 9 AR - 50SCCM
Line 10 NF3 - 400SCCM
Line 11 NF3 - 15SLM
Line 12 Ar - 3L
Line 13 Lower
Line 13 Upper N2 PURGE
Plasma Detect YES
B - (Z7) ULTIMA X HDP-CVD PALLET
Gas Pallet
Line 1 Upper N2 PURGE
Line 1 Lower O2 - 1L
Line 2 H2 (MFC Missing)
Line 3 HE - 600SCCM
Line 4 SiH4 - 400SCCM
Line 5 AR - 1L
Line 6 HE - 600SCCM
Line 7 H2 (MFC Missing)
Line 8 SiH4 - 50SCCM
Line 9 AR - 50SCCM
Line 10 NF3 - 400SCCM
Line 11 NF3 - 15SLM
Line 12 Ar - 10SLM
Line 13 Lower
Line 13 Upper N2 PURGE
Plasma Detect YES
C - (Z7) ULTIMA X HDP-CVD PALLET
Gas Pallet
Line 1 Upper N2 PURGE
Line 1 Lower O2 - 400SCCM
Line 2 NF3 - 400SCCM
Line 3 H2 - 1L
Line 4 SiH4 - 400SCCM
Line 5 HE - 600SCCM
Line 6 AR - 50SCCM
Line 7 H2 - 1L
Line 8 SiH4 - 50SCCM
Line 9 HE - 600SCCM
Line 10 NF3 - 400SCCM
Line 11 NF3 - 15SLM
Line 12 Ar - 3L
Line 13 Lower
Line 13 Upper N2 PURGE
Plasma Detect YES
Mainframe Options
Process Chamber Isolation
CHAMBER A SLIT VALVE
CHAMBER B SLIT VALVE
CHAMBER C SLIT VALVE
Mainframe and FI Alignment MF AND FI ALIGNMENT FIXTURES
CFW Manifold YES
LL and Xfer Ch Vac and Vent
Mainframe Type AP MAINFRAME
SWLL Doors AP STD SWLL DOOR
SWLL Cooldown
Wafer Hoop Type WAFER HOOP
Transfer Chamber Robot Blades
Transfer Chamber Robots STD REACH DUAL BLADE ROBOT
Transfer Chamber Lid CLEAR LID
Factory Interface Options
WIP Delivery Type OHT WIP DELIVERY
Number of Load Ports 2 LOAD PORTS
Atmospheric Robots KAWASAKI 2 FIXED ROBOTS WITH EDGE GRIP(C61D-B001)
Load Port Types ENHANCED 25 WAFER FOUP
E84 Carrier Handoff UPPER E84 INTERFACE ENABLED OHT
OHT Light Curtain LIGHT CURTAIN
Operator Access Switch YES
Configurable Colored Lights YES
Light Towers
Air Intake Systems
Remote Options
Sytem Monitors Selected Option
Monitor 1 FLAT PANEL WITH KEYBOARD ON STAND
Monitor 2
Heat Exchanger Selected Option
Heat Exchanger Type NA
Umbilicals Selected Option
Heat Exchanger Hose Length
Pumps Selected Option
Pump Supplied By NA
Pump Interface Type NA
AC Racks Selected Option
Facilities UPS Interface YES
Chamber Generator Type ENI GENERATOR RACK
SMC HX H2O Connection NA
QIL HX Qty
Ch A RF Generator Type ENI GENERATOR RACK (SPECTRUM B-10513)
Ch B RF Generator Type ENI GENERATOR RACK (SPECTRUM 11002-00)
Ch C RF Generator Type ENI GENERATOR RACK (SPECTRUM 11002-00)
Heat Exchanger Cable Length
Pump Interface Cable Length
Monitor 1 Cables
Monitor 2 Cables
Missing Parts
Turbo Throttle Valve
Ch#B Gas Panel DIO Board
HDD
Currently warehoused
2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima X ist ein Reaktor mit hohem Durchsatz und Wafergröße für die Herstellung von Halbleitern. Es ist in der Lage, bis zu 8-Zoll-Wafer zu handhaben und bietet eine breite Palette von Prozessfähigkeiten, von Schichtmaterialien über Bearbeitungsgräben, Abstandshalter und Verbindungen. Die Ausrüstung wurde entwickelt, um die fortschrittlichsten Fertigungsanforderungen in der Halbleiterindustrie zu erfüllen. Mit der Ultima X-Plattform bietet AMAT eine integrierte Wafer-Fertigungslösung mit der erweiterten Prozessfähigkeit, die für fortschrittliche Chip-Entwicklungsprojekte erforderlich ist. AMAT Centura Ultima X verfügt über zwei Wafer-Handhabungskammern mit einer 9-Kilowatt-Prozesskammer und einer 3-Kilowatt-Hilfskammer zweiter Ebene. Beide Kammern sind mit einer gemeinsamen Prozessventilstation mit Hochvakuumdichtungen verbunden und weisen ein gemeinsames Gasverteilungssystem zur Versorgung von Prozessgasen auf. Die Gasverteilereinheit des Reaktors wird von einem einzigen zentralen automatisierten Regler gesteuert und sorgt für eine zuverlässige gleichmäßige Gasverteilung über die gesamte Maschine. Die Ultra X verfügt außerdem über eine elektronische Trennventilstation, die sicherstellt, dass mögliche Verunreinigungen im Zusammenhang mit Prozessgasen minimiert werden. Das Ultima X bietet auch ein Niedertemperaturglühmodul, das sicherstellt, dass Wafer bei möglichst niedrigen Temperaturen für optimale Leistung verarbeitet werden. Das Werkzeug kann auch mit einer Reihe von zusätzlichen Funktionen und Zubehör konfiguriert werden, einschließlich zusätzlicher Sensoren, Sputterziele und Plasmabearbeitungskammern. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura Ultima X ist für die Kompatibilität mit einer Vielzahl von Ofendesigns konzipiert, einschließlich horizontaler und vertikaler Heißwandrohröfen und mehrstufiger horizontaler Kaltscheibenreaktoren. Es verfügt über eine Schnittstelle, die mit gängigen Halbleitersteuerungssystemen konsistent ist, so dass es eine All-in-One-integrierte Lösung ist, die alle Ihre Fertigungsanforderungen verarbeiten kann. Die Ultima X bietet auch eine Vielzahl von erweiterten Funktionen, darunter ein Embed-Metal-Modul, mit dem Sie zusätzliche Metallisierungsschichten schichten können, ohne den Wafer der Umgebung aussetzen zu müssen. Diese Funktion hilft auch, Zykluszeiten zu reduzieren und die Geräteherstellung effizienter und kostengünstiger zu gestalten. Die fortschrittlichen Steuerungssysteme des Ultima X sorgen zudem dafür, dass die Prozessrezepte und Temperaturen über alle Wafer hinweg konsistent sind. Schließlich Centura Ultima X ist ein fortgeschrittenes, Hodurchflusshalbleiterherstellungswerkzeug, das eine breite Reihe von Prozessfähigkeiten anbietet. Die hochintegrierte Plattform von Ultima X hilft dabei, einen zuverlässigen Prozess zu schaffen, und seine fortschrittlichen Funktionen reduzieren Zykluszeiten und helfen, kostengünstige Wafer mit zuverlässiger Leistung und langanhaltender Zuverlässigkeit zu erstellen.
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