Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima X #9220219 zu verkaufen

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AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima X
Verkauft
ID: 9220219
CVD System, 12" Mainframe: Centura ACP (2) PSG Chambers Components: (2) RF Generator racks AC Rack (2) SMC HX FI Missing parts: (2) ESC, P/N: 0040-48594 (2) BIAS Matches, P/N: 1110-00056 (2) RPS, P/N: 0190-24886 (2) Turbo pumps, P/N: 3620-00376 (2) Turbo controllers, P/N: 3620-00377 (2) Domes, P/N: 0200-01347 (2) WTM Probes, P/N: 1150-01028 (2) Throttle valves, P/N: 0010-29980 FE Server, P/N: 0090-04434 FI Server, P/N: 0090-04332 RT server, P/N: 0090-04468 Buffer robot driver, P/N: 0090-01972 UPS, P/N: 0190-22273 Currently warehoused 2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima X Reactor ist eine hochmoderne Verarbeitungsanlage für hochvolumige Abscheide- und Ätzanwendungen in der Halbleiterindustrie. Es verfügt über eine großflächige thermische Prozesskammer, die in ein kompaktes System integriert ist und einen höheren Durchsatz und eine verbesserte Kosteneffizienz bietet. Diese Industy-führende, integrierte Reaktoreinheit liefert höchste Gleichmäßigkeit, Durchsatz und Ausbeute in fortschrittlichen Prozesstechnologien. AMAT Centura Ultima X Reaktormaschine verfügt über eine großflächige thermische Prozesskammer von 15-x-15x-2 Zoll. Diese Prozesskammer ist für die Verarbeitung großer Wafersubstrate ausgelegt, die im Vergleich zu herkömmlichen Reaktoren einen höheren Durchsatz ermöglichen. Es ist auf optimale Leistung bei harten und niedrigen Temperaturablagerungs- und Ätzprozessen abgestimmt. Die Kammer ist mit einem schnellen Be-/Entladeanschluss ausgestattet, der eine schnelle Probenwendung ermöglicht und die Wafer in einer sicheren und kontrollierten Umgebung hält. Das Werkzeug zeigt auch eine breite Reihe von Technologien einschließlich einer unabhängigen Raumtemperaturkontrolle mit einer Präzision 0.1°C, ein Hochleistungsfrequenzschaltungsdesign und eine kapazitive Druck-Kontrollklappe. Zusätzlich kann die Prozesskammer mit bis zu acht Gaseingängen konfiguriert werden, was die Flexibilität bietet, eine Vielzahl von Prozessanforderungen zu erfüllen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura Ultima X Reactor wurde entwickelt, um eine qualitativ hochwertige Abscheidung und Ätzverarbeitung mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und Durchsatz zu gewährleisten. Die fortschrittliche Multi-Etch-Technologie ermöglicht eine deutlich verbesserte Abscheidung und Ätzgleichmäßigkeit bei gleichzeitiger Reduzierung des thermischen Budgetierens. Die Verarbeitungsanlage eignet sich gut für fortschrittliche Halbleiterprozesse, die eine hohe Durchsatzproduktion erfordern. Es ist auch mit einer Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen wie Überdruck, Probendrehung und Bodenisolation konfiguriert, um das Risiko einer Kontamination zu reduzieren. Zusätzlich zu den fortschrittlichen Leistungsmerkmalen des Reaktors kommt es auch mit einem komfortablen Automatisierungspaket. Dieses Paket beinhaltet eine flexible, benutzerfreundliche intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI) und eine umfangreiche Diagnose, die auf die spezifischen Bedürfnisse des Benutzers zugeschnitten werden kann. Centura Ultima X bietet auch eine große Auswahl an Diagnose- und Messtechnik-Tools. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima X Reactor ist ein leistungsstarkes und zuverlässiges Modell, das sich gut für Prozessanforderungen auf dem fortschrittlichen Halbleitermarkt eignet. Sein kompaktes Design, fortschrittliche Technologien und Benutzerfreundlichkeit machen es zu einer beliebten Wahl für viele Branchen. AMAT Centura Ultima X Reactor ist mit seinem innovativen thermischen Design, seiner widerstandsfähigen Leistung und seiner kosteneffizienten Produktion die ultimative Lösung für die Gleichmäßigkeit und den Durchsatz hochwertiger Prozesse.
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