Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima #9087848 zu verkaufen

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ID: 9087848
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2009
HDPCVD System, 8" Wafer shape: SNNF SMIF Interface: No Narrow loadlock (3) Ultima STD chambers Chamber information Chamber A: Ebara ET1600W turbo pump Chamber B: Ebara ET1600W turbo pump Chamber C: Ebara ET1600W turbo pump System monitor: First monitor: Through the wall Second monitor: Stand alone Mainframe information: System placement: Stand alone Robot type: HP Robot Robot blade: Ceramic Loadlock wafer mapping: Enhanced N2 Purge type: STEC 4400MC Gas delivery options: MFC type: STEC 4400MC Valves: Veriflow 10 Ra Max Filters: Mott Transducers: MKS w/o display Regulators: Veriflo Single line drop Top SLD gas line feed Gas panel door: Safety wired glass Top system cabinet exhaust MFC: Chamber A: Gas #1: O2 400 sccm Gas #2: AR 300 sccm Gas #3: SIH4 200 sccm Gas #4: SIH4 100 sccm Gas #5: AR 50 sccm Gas #6: SIH4 30 sccm Gas #7: SIH4 10 sccm Gas #8: NF3 2 slm Gas #9: AR 2 slm Chamber B: Gas #1: O2 400 sccm Gas #2: AR 300 sccm Gas #3: SIH4 200 sccm Gas #4: SIH4 100 sccm Gas #5: AR 50 sccm Gas #6: SIH4 30 sccm Gas #7: SIH4 10 sccm Gas #8: NF3 2 slm Gas #9: AR 2 slm Chamber C: Gas #1: O2 400 sccm Gas #2: AR 300 sccm Gas #3: SIH4 200 sccm Gas #4: SIH4 100 sccm Gas #5: AR 50 sccm Gas #6: SIH4 30 sccm Gas #7: SIH4 10 sccm Gas #8: NF3 2 slm Gas #9: AR 2 slm 50/60Hz, 208V, 320A, 100MA 2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima ist ein fortschrittlicher nanowissenschaftlicher Forschungsreaktor, der für komplexe Prozessoperationen mit ultrahohem Durchsatz und ultra-langer Lebensdauer entwickelt wurde. Dieses System verfügt über einen hochpräzisen Mehrkammerreaktor mit hohem Durchsatz zur präzisen und genauen Abscheidung von Materialien mit hohem Prozessdurchsatz, wodurch wiederholbare, kostengünstige Ergebnisse erzielt werden können. Dieser Reaktor verwendet einen Gasmix mit einstellbarer Gasdurchsatz- und Druckregelung mit einem Betriebsdruckbereich von 1000 mbar und einer Auflösung von 0,0005 zur Feinbearbeitungsregelung. Es verfügt auch über robuste, hermetisch abgedichtete Kammern, die das Kontaminationsrisiko minimieren und eine schnelle und einfache Reinigung ermöglichen. Das Kammerdesign optimiert die Gleichmäßigkeit der Abscheidung sowohl für Dünnschicht- als auch für Schichtprozesse und minimiert dabei Geräusche und Vibrationen, die eine ansonsten eng gesteuerte Umgebung beeinflussen können. Dieser Reaktor ist mit in situ Diagnose- und Kontrollsystemen ausgestattet, einschließlich einer hochauflösenden Kamera und einem Mikrowellengasanalysator, der eine automatische präzise Steuerung und Überwachung des Abscheidungsprozesses ermöglicht. Die Fähigkeit, einen Prozess schnell und genau zu diagnostizieren, ermöglicht es dem Benutzer, Probleme schnell und genau zu beheben. Die Kammer ist auch mechanisch abstimmbar, was die Einstellung verschiedener Parameter und die Optimierung des Prozesses ermöglicht. AMAT Centura Ultima ist für die Kompatibilität mit einer breiten Palette von Nanomaterialien und Substratmaterialien konzipiert - bietet den Vorteil einer flexiblen Abscheidung. Dieses System verfügt über eine Reinraumumumgebung der Klasse 3, die eine geringe Partikelumgebung und optimale Temperaturstabilität gewährleistet. Es kommt auch mit einem innovativen AMAT-unterstützten Programm der Kundenanwendung, Forschungszusammenarbeit und Ausbildung in Nanomaterialien. Alle Komponenten, wie Zielhalter und Ablagerungsquellen, sind entsprechend den Anforderungen der Anwender koordiniert und austauschbar, so dass alle nanomaterialspezifischen Verarbeitungsanforderungen erfüllt werden können. Dieser vielseitige Reaktor hat sich als zuverlässige und leistungsstarke Plattform für eine breite Palette von Forschungs- und Entwicklungsanforderungen erwiesen und bietet ein ultimatives Leistungsniveau. Mit einem vielseitigen Design und zuverlässigen, wiederholbaren Ergebnissen ist APPLIED MATERIALS Centura Ultima ein wertvolles Werkzeug für fortschrittliche Nanowissenschaftsforschung.
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