Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima+ #9230338 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima + ist ein fortschrittlicher Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor zur Dünnschichtabscheidung. Dieses Gerät verwendet eine fortschrittliche Dual-Frequenz Novellus Generation4 Plasmaquelle, die eine präzise Kontrolle der Abscheidungstemperaturen ermöglicht, um Gleichmäßigkeitsschichten bis zu 0,3 um dick abzuscheiden. Der Reaktor ist auch in der Lage, dielektrische Halbleiter und leitfähige Metalle zu verarbeiten, um Low-K-dielektrische Leiterbahnen oder Metallkontaktbarrieren zu schaffen. AMAT Centura Ultima + verfügt über ein proprietäres Dualzonen-Induktionsspulendesign, um seine 75 MHz und 13,56 MHz RF-Quellen mit Strom zu versorgen. Dies ermöglicht eine verbesserte Schichtgleichförmigkeit und -durchsatz, was zu höheren Ausbeuten und einer besseren Ausbeute führt. Seine mehrlappigen magnetisch betriebenen HF-Spulen bieten eine hervorragende Replikation des Plasmas in der gesamten Kammer für eine höhere Temperatur und Schichtgleichförmigkeit, was einen besseren Transfer von Materialien in das Substrat ermöglicht. Das System nutzt eine proprietäre Novellus Scrub und Drytube Technologie, um eine qualitativ hochwertige, fehlerfreie Dünnschichtabscheidung zu gewährleisten. Das Peeling-Verfahren verwendet eine kaskadierende Anordnung von mehreren Niederdruck-Stickstoffröhren, um alle Plasma-Nebenprodukte und -Verunreinigungen vor dem nächsten Verfahrensschritt von der Substratoberfläche zu entfernen. Die Drytube-Technologie ermöglicht es, die Prozessgas- und Substrattemperatur konstant zu halten und so qualitativ hochwertige Abscheidungen zu gewährleisten. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura Ultima + verfügt auch über ein integriertes Endstation-Modul, das Rezept-Schreiben, programmierbare Messtechnik und einstellbare Benutzeroberflächenoptionen für maximale Prozessoptimierung ermöglicht. Seine fortschrittliche Materialhandhabungseinheit ermöglicht es dem Substrat, sich kontinuierlich innerhalb der Reaktorkammer ohne Unterbrechung zu bewegen und zu drehen, was eine Produktion mit hohem Durchsatz ermöglicht. Zusätzlich zu den fortschrittlichen Abscheidungstechnologien enthält der Centura Ultima + Reaktor auch eine hochauflösende Bildverarbeitungsmaschine, die präzise, leicht verständliche Echtzeitbilder des Prozesses ermöglicht. Dieses Tool unterstützt auch die Prozessoptimierung und bietet ein leistungsfähiges Tool zur direkten Überwachung und Einsicht in die Prozessleistung. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima + plasma enhanced chemical vapor deposition reactor bietet fortschrittliche Technologie zur Herstellung von hochwertigen, gleichmäßigen Dünnschichtschichten für eine Vielzahl von Geräteanwendungen. Die fortschrittliche Abscheide- und Materialhandhabungstechnologie in Kombination mit integrierter Benutzeroberfläche, Bildgebung und Messtechnik ist ein idealer Vorteil für die Produktion hochwertiger Dünnschichtschichten mit hohem Durchsatz.