Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9116739 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD (Chemical Vapor Deposition) Reaktor ist ein vielseitiges Halbleiterbauelement Herstellungswerkzeug, das erweiterte 3D-Funktionalität ermöglicht. Es wird zum Abscheiden einer Vielzahl von Dünnschichtmaterialien verwendet, einschließlich Polysilizium, Si3N4, SiO2 und anderen dotierten und nicht dotierten Dielektrika. Das Werkzeug arbeitet, indem es ein Gasgemisch aus zwei oder mehr Ausgangsmaterialien unter Verwendung eines Trägergases in eine Kammer abgibt und dann auf eine vorbestimmte Temperatur und Druck erhitzt, um eine chemische Reaktion zu erzeugen. Bei dieser Reaktion entsteht ein Reaktionsprodukt, das dann in einer dünnen Schicht auf einem Substrat wie einem Siliziumwafer abgeschieden wird. AMAT Centura WCVD Reaktor ist mit einer Reihe von verschiedenen Technologien und Konfigurationen ausgestattet, damit der Benutzer den Prozess an seine gewünschten Anforderungen anpassen kann. Dazu gehören einstellbare Reaktantenkonzentration, einstellbare Substrattemperatur, einstellbare Heizleistung, einstellbare Drücke, einstellbare Verweilzeiten und einstellbare Kammergeometrie. Diese Eigenschaften ermöglichen eine präzise Steuerung der Reaktionspartner und gewährleisten eine konstante und wiederholbare Abscheideleistung. Darüber hinaus verfügt der WCVD-Reaktor APPLIED MATERIALS CENTURA über ein umfassendes Temperaturkontroll- und Diagnosepaket, das eine Temperaturüberwachung sowohl des Substrats als auch der Abscheidekammer umfasst. Dies unterstützt den Bediener zusätzlich durch Echtzeit-Feedback zum Zustand des Werkzeugs und seinen Prozessen. Die von APPLIED MATERIALS Centura WCVD Reaktor verwendete chemische Aufdampftechnik ist sehr zuverlässig und wiederholbar. Es ist in der Lage, extrem gleichmäßige und glatte Oberflächen zu erzeugen, ideal für fortgeschrittene Anwendungen wie Kupferleiterbahnen, Durchsiliziumvias, MEMS/NEMS, Hochfrequenz- und analoge ICs, optische Bauelemente und MEMS/3D Transistoren. Darüber hinaus bietet der Centura WCVD-Reaktor eine hohe thermische Effizienz und einen geringen Gasverbrauch, was ihn sowohl kostengünstig als auch umweltfreundlich macht. Insgesamt bietet der WCVD-Reaktor CENTURA fortschrittliche und zuverlässige Lösungen zur chemischen Bedampfung. Es ist in der Lage, extrem gleichmäßige und niedrige defekte Oberflächen zu erzeugen, ideal für die Herstellung fortgeschrittener Halbleiterbauelemente. Die einstellbaren Konfigurationsoptionen des Werkzeugs, das umfassende Temperaturkontroll- und Diagnosepaket und die hohe thermische Effizienz ermöglichen es dem Bediener, kostengünstige, wiederholbare und zuverlässige Produkte zu produzieren.