Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9116743 zu verkaufen

AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD Reaktor ist ein hochmodernes CVD-Gerät (Chemical Vapor Deposition), das in Halbleiterherstellungsprozessen eingesetzt wird. Dieses fortschrittliche CVD-System wurde entwickelt, um ertragreichere epitaktische Filme mit höheren Abscheidungsraten als herkömmliche CVD-Systeme zu liefern. AMAT Centura WCVD Reaktor verfügt über eine Reihe von Komponenten, die kombinieren, um überlegene Ergebnisse in Epitaxie- und Diffusionsanwendungen zu bringen. Zum einen weist der WCVD-Reaktor APPLIED MATERIALS CENTURA eine endotherme oder beheizte Gasquellenverteileinheit auf. Diese Maschine verwendet proprietäre Technologien, um einheitliche und wiederholbare Gasverteilungen an die ID und OD-Zylinder des Werkzeugs zu liefern. Die Gasverteilungsanlage sorgt auch für eine präzise Gleichmäßigkeit der Reaktorkammer und liefert wiederholbare Ergebnisse. Darüber hinaus ist der AMAT CENTURA WCVD Reaktor mit einer hocheffizienten, beheizten Transferkammer (HTC) ausgestattet. Diese Kammer sorgt für eine effektive thermische Steuerung und sorgt für eine gleichmäßige Infusion von Prozessgasen auf Substratscheiben. Das HTC reduziert auch Schäden durch strahlende Wärmeenergie und ermöglicht eine schnellere Wärmerückgewinnung beim Radfahren zwischen Rezeptschritten. Darüber hinaus verfügt der CENTURA WCVD-Reaktor über ein innovatives, programmierbares Duschkopfeinspritzmodell. Diese Anlage ist in der Lage, Prozessgase in einem konfigurierbaren Brausemuster herzustellen, was eine größere Flexibilität und Kontrolle über den Abscheidungsprozess ermöglicht. Auch können die mehreren Einzeldüsenringe verwendet werden, um eine präzise Kontrolle über die Diffusionszeit und die resultierende Kammerumgebung zu ermöglichen. Zur Ergänzung des Duschkopfeinspritzsystems ist Centura WCVD mit einer Quarzkanal-Elektronenzyklotronresonanz (ECR) -Quelle ausgestattet. Dieses Gerät bietet Hochleistungsplasma für plasmaverstärkte Wachstumsraten, niedriges Restgas und eine bessere Kontrolle der Filmparameter. Es bietet auch eine beispiellose Fähigkeit, Wachstumsparameter wie Temperatur und Gaschemie unabhängig zu steuern. Schließlich hat APPLIED MATERIALS Centura WCVD Reaktor ein photonisches Härtungsmodul. Dieses Modul soll die Geräteleistung durch UV-Bestrahlung der Oberflächenscheibe nach der Abscheidung weiter verbessern. Dies gewährleistet eine höhere Gleichmäßigkeit und bessere Anpassung des Wafers an die Weiterverarbeitung. Insgesamt ist der AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD Reaktor ein leistungsfähiges und vielseitiges Werkzeug zur Herstellung hochwertiger Epitaxie- und Diffusionsfolien. Seine erweiterten Funktionen und Komponenten bieten Anwendern mehr Kontrolle, Einheitlichkeit und Wiederholbarkeit für ihre Verarbeitungsanforderungen.