Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9116744 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD ist ein CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der für epitaktische Prozesse fortschrittlicher Materialien entwickelt wurde. Es wird für das Wachstum von engen Kornstrukturen und Epitaxie von hochintegrierten Schaltungssubstraten verwendet. Das WCVD nutzt die neuesten Fortschritte im Reaktionskammerdesign für hervorragende Leistung, Prozessgleichmäßigkeit und Robustheit. AMAT Centura WCVD verfügt über eine vertikale Rohrreaktionskammer, die für ein überlegenes Wärmemanagement wassergekühlt ist. Die Reaktionskammer verfügt über abnehmbare HF/DC-Magnete für eine breite Palette von epitaktischen (Wafer-Wachstum) Bearbeitungs- und Maschinenmanipulationsmöglichkeiten. Die Reaktionskammer ist außerdem mit Gasbehältermerkmalen, wie einer verbesserten Form und HF-Abschirmplatten, zur Verbesserung der Betriebssicherheit ausgebildet. ANGEWANDTE MATERIALIEN CENTURA WCVD wird von einem fortschrittlichen Steuerungssystem angetrieben, das eine breite Palette von Prozessüberwachungsmöglichkeiten bietet. Es verfügt über fortschrittliche Temperatur- und Drucksteuerung, hochpräzises Wärmemanagement, HF-Leistungs- und Quellgassteuerung. Zusätzlich können Druck und Temperatur innerhalb der Reaktionskammer in einem Bereich von 10 Millitorr bzw. 100 Celsius gehalten werden. Für die Materialaufbereitung ist AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD mit einer Lastschloßkammer ausgestattet, integriert mit einem kassettenbasierten Lademodul. Diese Lastschloßkammer erleichtert die Übertragung von Wafern von der Kassette in die Bearbeitungskammer. Es verfügt auch über einen Seitenlastanschluss, der eine direkte Abscheidung auf Vakuumkammern ermöglicht. Darüber hinaus ist AMAT CENTURA WCVD mit einem umfangreichen Zubehör ausgestattet, darunter Abgaspumpen, Gasfördersysteme sowie beheizte und gekühlte Übertragungsleitungen für einen verbesserten Betrieb. Centura WCVD ist ein fortschrittlicher CVD-Reaktor, ideal für epitaktische Prozesse fortschrittlicher Materialien. CENTURA WCVD bietet mit seinem innovativen Reaktionskammerdesign, fortschrittlichen Temperatur- und Druckregelungsfunktionen, einem hochpräzisen Wärmemanagement und einem umfangreichen Zubehörprogramm hervorragende Leistung, Prozessgleichmäßigkeit und Robustheit.