Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9169932 zu verkaufen

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AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD
Verkauft
ID: 9169932
Wafergröße: 8"
CVD System, 8" (3) Chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD (Wet Chemical Vapor Deposition) Reaktor ist ein spezialisiertes Werkzeug in Produktionsqualität in einer Vielzahl von fortschrittlichen Materialwachstumsanwendungen verwendet. AMAT Centura WCVD Reaktorausrüstung ist in der Lage, eine breite Palette von hochwertigen Folien bei hohen Durchsatzraten zu erreichen. Das System vereint eine naßchemische Reaktantenquelle, einen Heißwandrohrofen, eine gekühlte Reaktionskammer, eine effiziente Wärmeübertragungseinheit und eine hochgenaue Temperaturrückkopplungsregelung. Die naßchemische Reaktantenquelle ist für eine präzise und stabile chemische Dampfabscheidung ausgelegt. Die Reaktantgase, entweder Halogenid oder Elementar, werden über eine interne Gaszuführungsmaschine zugeführt und dann durch einen Blasen geleitet, um einen kontrollierten Bereich der Keimdichte zu erzeugen. Der Bubbler weist eine auswechselbare inerte Heizung auf, die es ermöglicht, die Temperatur des Bubblers auf einen gewünschten Bereich einzustellen, was zu einem genau gesteuerten Strom von Reaktantgasen führt. Der in APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD verwendete Warmwandofen sorgt für einen hocheffizienten und zuverlässigen Wärmeeintrag. Es verwendet einen starken Molybdän (Mo) Tiegel, um eine gleichmäßige Wärmeverteilung zu gewährleisten, und einen hohen Emissionsgrad Mo Hitzeschild, um die Reaktionskammer vor Wärmeableitung zu schützen. Zusammen stellen diese Komponenten sicher, dass die erforderlichen Temperaturniveaus im gesamten Ofen eingehalten werden. Die gekühlte Reaktionskammer hilft bei der Steuerung der Filmabscheidungstemperatur durch eine stabile und thermisch isolierte Umgebung. Es besteht aus hochwertigem verkleideten Blech, das eine ausgezeichnete Wärmedämmung und eine leckagefreie luftdichte Vakuumdichtung bietet. Darüber hinaus ist es mit hocheffizienten Dampfentfernungsöffnungen ausgestattet, die dabei helfen, überschüssige Reaktantgase zu entfernen und Abscheidungstemperaturen zu reduzieren. Das Wärmeübertragungswerkzeug von Centura WCVD ist für eine schnelle und effiziente Filmabscheidung ausgelegt. Es verwendet ein durchgehendes Heißwandheizelement für maximales Wärmeübertragungspotential sowie einen robusten thermoelektrischen Kühler zur Beseitigung statischer Wärmebelastung. Seine Dualzonenkontrolle sorgt für eine gleichmäßige Temperaturverteilung im gesamten Asset, unterstützt bei der Schaffung einer gleichbleibenden Folienqualität und beseitigt die Notwendigkeit eines übermäßigen thermischen Zyklus. Schließlich verfügt AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD über eine hohe Genauigkeit Temperatur Rückkopplung Steuermodell. Diese fortschrittliche Steuerungsausrüstung ermöglicht die Echtzeit-Kontrolle der Filmabscheidung, die Optimierung von Prozessparametern und die Gewährleistung einer hohen Filmqualität. In Kombination mit seinem effizienten Wärmeübertragungssystem liefert APPLIED MATERIALS Centura WCVD eine hervorragende Dünnschichtabscheidungsproduktivität.
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