Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WxZ #293763999 zu verkaufen
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WxZ ist ein hochentwickelter High Vacuum Chemical Vapor Deposition (HVCVD) Reaktor, der speziell entwickelt wurde, um branchenführende Dünnfilme mit hoher Gleichmäßigkeit bereitzustellen. Mit fortschrittlichen Plasma- und Wärmemanagementtechnologien ist dieser Reaktor in der Lage, Filme von ausgezeichneter Qualität und Gleichmäßigkeit zu produzieren. Das Design von AMAT Centura WxZ basiert auf einer modularen Plattform, die aus einer Prozesskammer, einem oder mehreren Substrathaltern, einem Ventilanschluss und einer Abgasanlage besteht. Die Prozesskammer selbst wird von einem leistungsstarken 50 kHz Direct Digital Synthesized (DDS) HF Netzteil mit einem Leistungsbereich von bis zu 4.5kW angetrieben. Die Substrathalter sind für bis zu sechs 4-Zoll, 5-Zoll oder 6-Zoll-Wafer ausgelegt und verfügen über ein hochmodernes Design mit hohem Luftstrom, um ein gleichmäßiges Wärmemanagement der Wafer zu gewährleisten. Die Ventilöffnung ermöglicht das Einbringen der Prozessspezies, wie das Ausgangsmaterial, in die Vakuumkammer. Das integrierte erweiterte Plasma-Management-System unterstützt bis zu drei (3) HF-, PECVD- und ECR-Quellen, was der Centura eine beispiellose Prozessgleichförmigkeit bietet. Die eingebaute ECR-Anregungsquelle bietet die Möglichkeit, fortschrittliches Material wie Siliziumnitrid, a-SiC: H und diamantähnlichen Kohlenstoff abzuscheiden. Der Prozessdruckbereich liegt zwischen 0,5 mT und 200 mT, mit Fähigkeiten für Multi-Zonen- und Soft-Baking-Technologien. Auch das Temperaturregelsystem am Reaktor ist weit fortgeschritten. Es unterstützt Temperaturen bis 310 ° C, so dass eine präzise Kontrolle und hohe Gleichmäßigkeit Ablagerungen. Darüber hinaus gibt die fortschrittliche PID-Prozesssteuerung und -überwachung der Prozessparameter eine präzise Steuerung des Abscheideprozesses. Diese Prozesssteuerung ermöglicht auch die Ausführung von Langzeitprozessen von bis zu 8 Stunden. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura WxZ ist ein leistungsfähiges und präzises Werkzeug für Abscheideprozesse. Neben der präzisen Abscheidegleichmäßigkeit und Prozesskontrolle verfügt die Centura auch über ein emissionsarmes Design, das optimale Gesundheits- und Sicherheitsstandards gewährleistet. Darüber hinaus enthält die WxZ-Version eingebaute Sonder-Gasentfernungs- und Oxy-Genized-Plarming-Merkmale, die die Substrate während des Abscheidungsprozesses vor Oxidation und Korrosion schützen. Mit all diesen Funktionen ist Centura WxZ einer der fortschrittlichsten und zuverlässigsten Reaktoren der Branche.
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