Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WxZ #9315574 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WxZ
ID: 9315574
CVD System.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WxZ Reaktor ist eine hocheffiziente, hochleistungsfähige Plasmaätzanlage für kritische Anwendungen in der Halbleiterindustrie. Der Reaktor ist in der Lage, sowohl n-Typ als auch p-Typ Wafer gleichzeitig zu verarbeiten, was höchste Ausbeuten und Durchsatz der Vorrichtung ermöglicht. AMAT Centura WxZ ist ein Zweizonenreaktor, der klassische und fortschrittliche Plasmaätztechnologien integriert, um den genauen Zeitpunkt und die Dosis einer Vielzahl von Ätzätzmitteln genau zu steuern. Das System ist mit einer geschlossenen HF-Kammer ausgestattet, die eine präzise Kontrolle der Plasmaumgebung ermöglicht und gewährleistet, dass die Wafer gleichmäßigen und konsistenten Ätzbedingungen ausgesetzt sind. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura WxZ verfügt auch über eine variable Gaseinspritzeinheit, die eine präzise Steuerung der Ätzgasströme ermöglicht. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung von Ätzrate, Selektivität und Ionenenergie sowie die Optimierung der Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit von Ätzprozessen. Die Maschine kann so konfiguriert werden, dass sie mit einer Vielzahl von Gasen arbeitet, einschließlich Ar, CF4, HCl, O2 und SF6, um eine optimale Prozessleistung zu gewährleisten. Centura WxZ verfügt auch über ein ausgeklügeltes Vakuumwerkzeug, das Verschmutzungen minimiert und die Wiederholbarkeit der Ätzkammer verbessert. Die Vakuumanlage wurde entwickelt, um Partikelverunreinigungen zu minimieren und das Risiko von Waferschäden zu minimieren. Das Modell verfügt außerdem über ein neuartiges elektrostatisches Spannfutterdesign, das eine starke, aber gleichmäßige Klemmung des Wafers gewährleistet und eine präzise Kontrolle der Ätzgleichmäßigkeit und Ausbeute ermöglicht. Schließlich umfasst AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WxZ eine Vielzahl von erweiterten Automatisierungs- und Prozesssteuerungsfunktionen und bietet eine umfassende Plattform für die Now-End-Optimierung von Plasmaätzprozessen. Die Plattform umfasst eine benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche, Echtzeit-Prozessüberwachung und Diagnosefunktionen sowie eine umfassende Bibliothek vordefinierter Ätzprozesse. Insgesamt ist AMAT Centura WxZ ein vielseitiger und hocheffizienter Plasmaätzreaktor, der in der Lage ist, hervorragende Ergebnisse für kritische Ätzprozesse in der Halbleiterindustrie zu erzielen. Durch die Kombination von klassischen und fortschrittlichen Plasmaätztechnologien ist die Ausrüstung in der Lage, identische Ätzeigenschaften zu erzielen, wodurch höchste Geräteerträge und -durchsätze gewährleistet werden. Mit seinen umfassenden Automatisierungs- und Prozesssteuerungsfunktionen ist APPLIED MATERIALS Centura WxZ eine ideale Wahl für diejenigen, die überlegene Ätzergebnisse suchen.
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