Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura XP #9201763 zu verkaufen

ID: 9201763
Wafergröße: 8"
CVD System, 8" WSIX (Optima) (4) Chambers 2002 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura XP Reaktor ist eine vielseitige, verarbeitende Ausrüstung, die den Anforderungen der heutigen hochproduktiven Halbleiterherstellung gerecht wird. Dieses Gerät ist in der Lage, sowohl fortschrittliche als auch ältere Prozesse zu bewältigen, was eine hervorragende Flexibilität und Skalierbarkeit beim Übergang zwischen verschiedenen Technologien ermöglicht. AMAT Centura XP ist in der Lage, eine breite Palette von verschiedenen Prozessen durchzuführen, einschließlich Abscheidung, Ätzen und chemische Dampfabscheidung (CVD). Das System bietet auch fortschrittliche Prozessüberwachung und -kontrolle mit Optionen für Messtechnik, Waferbrucherkennung und Fehleraudits. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura XP bietet eine hervorragende thermische Kontrolle und umfasst eine automatisierte Waferübertragungsunterstützung, die eine schnelle Zykluszeit und wiederholbare Ergebnisse ermöglicht. Der Centura XP Reaktor bietet durch seine Doppellader und eine automatisierte ISLL-Option (In-situ Loadlock) sowie eine programmierbare, modulare und erweiterbare Plattform eine überragende Flexibilität und Genauigkeit. Dies bietet Benutzern die Möglichkeit, das Gerät nach ihren spezifischen Anforderungen zu konfigurieren und gewährleistet eine maximale Prozesskontrolle. Darüber hinaus verfügt die Maschine über Hochdruckgas und flüssige PRGDs, integrierte Sicherheitsprüfungen und Verriegelungen, automatisierte Druck- und Temperaturüberwachung sowie ein Heizwerkzeug mit mehreren Optionen (je nach Anwendungsart). AMAT/APPLIED MATERIALS Centura XP Reaktor ist für maximale Zuverlässigkeit und Betriebszeit ausgelegt und verfügt über eine breite Palette von integrierten Funktionen. Es unterstützt bis zu 24 Rezeptstufen, On-the-Fly-Einstellungen, Sauerstoff, Helium und Stickstoffspülung und ist mit einer Reihe fortschrittlicher Prozessrezepte, wie nachgeschalteten Reaktanden für Ätz- und Oberflächenschäden, kompatibel. Darüber hinaus umfasst das Asset 20-Zoll-Cluster-Tools, mit denen bis zu fünf Rezepte gleichzeitig auf bis zu sechs Wafern angewendet werden können, während ein CTC-Transfermodell (Automated Cassette-to-Cassette) für einen zuverlässigen Wafer-Transferzyklus sorgt. Die Konstruktion der Geräte verfügt über spiegelpolierte Komponenten, die die Partikelerzeugung reduzieren und Leistung und Durchsatz maximieren. Darüber hinaus ist der AMAT Centura XP Reaktor für eine kostengünstige, volumenstarke Prozessreproduzierbarkeit und eine hervorragende Partikelkontrolle ausgelegt. Um die Zuverlässigkeit und Verfügbarkeit zu maximieren, ist das System mit einer automatisierten Prozessvalidierungsschicht ausgestattet, die eine schnelle Fehlererkennung und -korrektur ermöglicht. Zu den weiteren Merkmalen gehören eine bordseitige vorbeugende Wartungseinheit sowie automatisierte Alarm- und ausfallsichere Systeme. Die Maschine kann auch so konfiguriert werden, dass sie sich automatisch auf Änderungen der Plasmabedingungen einstellt, wodurch der Bedarf an manuellen, arbeitsintensiven Anpassungen reduziert wird.
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