Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura XZ #9093325 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura XZ
ID: 9093325
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2003
CVD System, 12", 2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura XZ Reaktor ist eine PECVD-Ausrüstung für die hochproduktive Herstellung von fortschrittlichen Halbleiter- und optoelektronischen Bauelementen. Das System verfügt über hochintegrierte Bedienelemente sowie automatisches Be- und Entladen. Das Gerät kann so konfiguriert werden, dass es bis zu drei unabhängige Prozesskammern bereitstellt, die jeweils von einem speziellen Hochfrequenznetzteil unterstützt werden. Jede Kammer ist mit Potentiostat-Technologie ausgestattet, die eine präzise Steuerung der Plasmaparameter für eine effektive Ätzrate/Selektivitätsregelung ermöglicht. Der AMAT Centura XZ Reaktor bietet eine flexible Plattform zur Herstellung von CMOS-Bauelementen, MEMS-Strukturen, MEMS-Bauelementen und monokristallinen Silizium-Halbleiterbauelementen. Die Maschine ist in der Lage Ultra-High-Deposition (UHD) -Prozesse und ist mit einem Hochspannungs-HF-Generator (HV-RF) für verbesserte Oberflächengleichförmigkeit bei PECVD-Prozessen ausgestattet. Die programmierte DCS (Deposition Control Asset) des Werkzeugs bietet Präzisionssteuerung und Wiederholbarkeit der Filmdicke im gesamten Wafer. ANGEWANDTE MATERIALIEN Der Centura XZ Reaktor verfügt über eine Reihe innovativer Werkzeuge zur Verbesserung der Prozesssteuerung und -leistung. Dazu gehört ein automatisiertes Dotierstoff-Abgabemodell für die In-situ-Dotierung, das den Materialverlust minimieren und wiederholbare Dotierungskonzentrationen gewährleisten kann. Das Gerät unterstützt auch eine präzise Ätzsteuerung durch den Einsatz verschiedener reaktiver Gasgemische entweder in einer einzigen Kammer oder in einer Mehrkammerkonfiguration. Darüber hinaus bietet das System gleichmäßige Abscheideraten über einen weiten Bereich von Abscheidungstemperaturen und maximiert so die Produktqualität. Der Reaktor ist für einen schnellen Start des Werkzeugs und eine einfache Bedienung ausgelegt, was eine schnellere Waferproduktion ermöglicht. Die Einheit ist modular und hochautomatisiert, was die Komplexität des Be- und Entladens von Wafern reduziert und eine sichere Umgebung für das Personal bietet. Die Maschine verfügt auch über eingebaute Sicherheitsfunktionen wie Verriegelungen, um Hochdruck und Verschmutzungen vorzubeugen. Centura XZ Reaktor ist ein innovatives Werkzeug, das eine Reihe von Lösungen für fortschrittliche Prozessanforderungen bietet. Es ist vielseitig einsetzbar und kann den spezifischen Anforderungen unterschiedlichster Anwendungen angepasst werden. Das Asset bietet eine präzise Prozesssteuerung, hohe Abscheidungsraten und die Möglichkeit, In-situ-Doping für eine nahtlose Dopingkonzentrationskontrolle zu integrieren. Durch die Kombination aus Leistung, Zuverlässigkeit und geringer Wartung ist der Centura XZ Reaktor AMAT/APPLIED MATERIALS eine ideale Wahl für die hochproduktive Herstellung fortschrittlicher Halbleiter- und optoelektronischer Bauelemente.
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