Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #201071 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Waferbearbeitungsgeräte ist ein fortschrittlicher Filmabscheidungsreaktor, der in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Es wurde entwickelt, um den Durchsatz und die Gleichmäßigkeit zu maximieren und gleichzeitig die Ausschussraten zu minimieren. Der AMAT CENTURA Reaktor verwendet fortschrittliche Dünnschichtvorläuferquellen und bietet eine bahnförmige Kammer, die mehrere Runset-Konfigurationen ermöglicht, die Gleichmäßigkeit der Filmdicke erhöht und den Durchsatz weiter optimiert. Zusammen mit seinem fortschrittlichen Kammerdesign bietet APPLIED MATERIALS CENTURA eine hochmoderne Prozesssteuerung, die an die Herstellungsanforderungen jedes Halbleiterbauelements angepasst werden kann. Der CENTURA-Reaktor ist auf einem soliden, langlebigen Rahmen für maximale Vibrationskontrolle aufgebaut und bietet eine standardmäßige 4 „x 4“ -Wafergröße - klein genug für schnelles Experimentieren. Zusätzlich verbindet AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA Reaktor eine, Unterdruckniedrigtemperaturabsetzungsumgebung mit einer hoch vielseitigen Wirkleistungsversorgung. Ihr proprietärer, dedizierter Flansch fungiert als erweitertes Gasfördersystem und gewährleistet eine gleichmäßige Verteilung über das Wafersubstrat, während die aktive Stromversorgung eine ganze Reihe von Parametern zur Feinabstimmung eines bestimmten Prozesses bietet. Wenn es um Produktivität und Wiederholbarkeit geht, ist der eigentliche Zug zum AMAT CENTURA Reaktor seine Fähigkeit, Prozesse zu optimieren, die sowohl zeitintensiv als auch sehr zerstörerisch sind. Die Verwendung von proprietären Vorläufermaterialien und einer patentierten „Quench-Guard“ -Kammer ermöglicht es APPLIED MATERIALS CENTURA, Dünnschichtvorläufer schnell und gleichmäßig abzulegen. Mit dieser Einheit kann auch unter anspruchsvollen Hochtemperaturglühbedingungen eine optimale Gleichmäßigkeit erreicht werden. Wie bei jeder neuen Abscheidungsmaschine ist die Wiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit der Prozesse ein wichtiger Bestandteil optimierter Dünnschichtabscheidungsfähigkeiten. Mit CENTURA wird die Prozesswiederholbarkeit dank ihres Active Gas Vielseitigkeits-Tools (AGVS) weiter verbessert. Dieser Vermögenswert enthält bis zu drei verschiedene Gase und ermöglicht die Anpassung an mehrere Prozessparameter in einem einzigen Zyklus. Dies reduziert den manuellen Anpassungsbedarf erheblich und bietet eine höhere Genauigkeit im Abscheideprozess. Um die Leistung des AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reaktors weiter zu verbessern, bietet ein automatisierter Verschluss eine kontrollierte Glühumgebung, die sowohl die Gleichmäßigkeit der Abscheidung als auch die Wiederholbarkeit der Prozesse gewährleistet. Zusätzlich ist ein Roboterarm im Lieferumfang des Modells enthalten, der ein einfaches Be- und Entladen von Wafern ermöglicht. Dies gewährleistet einen maximalen Waferdurchsatz und eine dramatische Reduzierung der Handarbeit. Das Gerät bietet auch intuitive Software, die ein Wunder der Moderne ist, da es Anwendern hilft, die Parameter für eine optimale Dünnschichtabscheidung mit wenigen Klicks zu konfigurieren. Unter Berücksichtigung all dieser Merkmale lässt sich leicht erkennen, warum der AMAT CENTURA Reaktor ein revolutionäres Bauelement in der Welt der Halbleiterherstellung ist. Vom vielseitigen Kammerdesign bis zur fortschrittlichen Software-Steuerung ebnet es den Weg für die Zukunft der Dünnschichtabscheidung. Mit seinen schnellen, genauen und wiederholbaren Ergebnissen gibt APPLIED MATERIALS CENTURA Halbleiterherstellern die Werkzeuge, die sie für die Herstellung robuster und zuverlässiger Geräte benötigen.