Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #293592513 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist ein führender Ionenimplantationsreaktor zur Verarbeitung und Modifizierung der Materialeigenschaften von Silizium- und Halbleitermaterialien. Der primäre Zweck dieses Reaktors besteht darin, Ionen bestimmter Substanzen in ein Halbleitersubstrat zu injizieren, um einen oder mehrere gewünschte Effekte zu erzeugen. Das Innere des Reaktors besteht aus mehreren Schlüsselkomponenten, beginnend mit der Ionenquelle. Diese enthält die in das Substrat eingespritzten Ionen, die aus einem Gasversorgungssystem, einem Elektronenstrahlbeschleuniger und einem Hochspannungsfeldsystem bestehen. Von hier aus werden die Ionen über die Massentrennoptik auf die Substrate geleitet. Diese Optik arbeitet auch, um die Anzahl der Ionen zu trennen und zu begrenzen, die auf das Substrat geliefert werden. Sobald die Ionen das Substrat erreicht haben, werden sie weiterverarbeitet. Dieser Vorgang wird mit Hilfe eines Diffusionsmoduls, eines Strahllinienscanners und der HF-Hauptelektrode durchgeführt. Der Beamline-Scanner ist für die Steuerung der Anzahl und Art der an das Substrat gelieferten Ionen verantwortlich. Die HF-Hauptelektrode ist die zentrale Komponente des Reaktors und verwendet hochfrequente Felder, um die Ionen zu beschleunigen und zu lenken. Schließlich ist das Diffusionsmodul für die Regelung der lokalen Temperatur des Substrats und für die Zulassung zusätzlicher Verunreinigungen zum Substrat zuständig. Nachdem die Ionen in das Substrat implantiert wurden, kann sich der AMAT CENTURA Reaktor in eine tiefere Verarbeitung eingraben. Dazu können Ionenätzen und Ionenfräsen gehören, die für die weitere Manipulation der Eigenschaften des Substrats verantwortlich sind. Darüber hinaus können zusätzliche Reinigungsschritte auf dem Substrat durchgeführt werden, um ein qualitativ hochwertiges Produkt zu gewährleisten. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS CENTURA ein leistungsfähiges Werkzeug zur Steuerung, Manipulation und Veränderung der Eigenschaften von Halbleitermaterialien. Es wird als wichtiges Gerät in vielen Branchen eingesetzt und kann zur Herstellung erweiterter und verbesserter Halbleiterprodukte verwendet werden.