Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #293614967 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA
ID: 293614967
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2003
Metal etcher, 8" 2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist ein plasmaverbesserter chemischer Dampfabscheidungsreaktor (PECVD). Diese Art von Reaktor dient zur Abscheidung dünner Materialschichten auf verschiedenen Substraten, wie Halbleitern und anderen elektronischen Bauelementen, bei der Herstellung von integrierten Schaltungen, Photovoltaikzellen und anderen Bauelementen. AMAT CENTURA wurde entwickelt, um ein produktiver, flexibler und Hochleistungsreaktor zu sein, der überlegene Materialabscheidungsmöglichkeiten bietet. Es verwendet eine robuste entfernte Plasmaquelle (RPS), um hochreaktive und saubere Plasmen zu erzeugen, mit der Fähigkeit, mehrere Chemien und Prozessparameter zu schalten. ANGEWANDTE MATERIALIEN CENTURA verfügt über ein Vakuumgefäß mit einer innovativen, einfach zu bedienenden induktiv gekoppelten Plasmaquelle (ICP). Es bietet anpassbare, hochgleichmäßige Plasmaparameter über das Substrat für eine gleichmäßige Abscheidung. Ein optimiertes Design der HF-Verbindungen, HF-Abstimmschaltungen und Antennenskalierungen bieten eine hervorragende Plasmaabstimmung, indem das Spektralrauschen reduziert und ein gleichmäßiges Plasma über den Suszeptor aufrechterhalten wird. Durch eine präzise Leistungs- und Stromregelung entfernt die ICP-Quelle effizient die Substratladung und eliminiert das Sputtern. Das Hauptmerkmal von CENTURA ist seine Fähigkeit, Materialien mit einer breiten Palette von Dotierstoffkonzentrationen und chemischen Vorläufern zu schaffen, die eine größere Flexibilität für die Materialtechnik und die Geräteherstellung bieten. Das PECVD-System ist in der Lage, eine Reihe von Materialien wie einkristalline SiGe-Legierungen, Seltenerdoxide und ultradünne Kieselsäureschichten mit präzisen und wiederholbaren Dotierungsmöglichkeiten herzustellen. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist darüber hinaus mit schnellwärmenden Diffusionsabscheidern und schnell thermischen Epitaxiereaktoren ausgestattet, die einen Dotierstoffaustausch und eine Fehlerreduktion für die Gerätebearbeitung ermöglichen. Wenn es um Beladung und Temperaturregelung geht, bietet AMAT CENTURA ein einzigartiges Merkmal. Die integrierte Ladekassette ist hochtemperaturfähig und kann eine hohe Gleichmäßigkeit für bis zu fünf Substrate aufrechterhalten. Mit dem Low-Profile-Design ist das System einfach und einfach zu bedienen, mit einem automatisierten Substratübertragungssystem, das eine schnelle Beladung und Verarbeitung von Substraten ermöglicht. APPLIED MATERIALS CENTURA ist ein fortschrittlicher PECVD-Reaktor, der zuverlässige Leistung mit einer breiten Palette von Abscheidungsfähigkeiten kombiniert. Seine innovativen Funktionen bieten beispiellose Flexibilität und Leistung, während sein optimiertes Design Wartungskosten reduziert, Zeit spart und den Durchsatz steigert. Damit ist CENTURA die perfekte Wahl für die fortschrittliche Geräteherstellung, wenn Geschwindigkeit und qualitativ hochwertige Abscheideprozesse gewünscht werden.
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