Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #293767050 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist eine Serie von CVD-Reaktoren (Single-Wafer Chemical Vapor Deposition), die speziell für die Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurden. Die CVD-Systeme bieten eine vielseitige Plattform, die konfiguriert werden kann, um eine Vielzahl von Prozessen durchzuführen, einschließlich Abscheidung, Ätzen und gepulste Plasmaabscheidung. Das verbesserte Design von AMAT CENTURA bietet den höchsten Durchsatz und niedrigste Betriebskosten in seiner Klasse. ANGEWANDTE MATERIALIEN CENTURA Serie von CVD-Reaktoren wurden entwickelt, um das grundlegende Design einer Single-Wafer CVD-Ausrüstung zu verbessern. Die Systemplattform bietet ein robustes und bewährtes Design und eignet sich für verschiedenste Prozessanwendungen. CENTURA besteht aus mehreren Komponenten, darunter einem beheizten Einzelwafer-Suszeptor, einem Injektor für die reaktiven Gase und einer Vakuumkammer. Der Suszeptor ist der Teil der CVD-Einheit, der den Wafer während der Abscheidung unterstützt und erwärmt. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA verwendet einen einzigartig entwickelten Suszeptor, der mit verteilten Heizelementen ausgestattet ist, um das Substrat gleichmäßig zu erwärmen. Dieser Suszeptor kann Temperaturen von bis zu 1000 ° C erreichen, was höhere Abscheidungsraten und gleichmäßigere Filmqualität ermöglicht. Die Gasfördermaschine ist der Mechanismus zur Zuführung von Reaktivgas zur Prozesskammer. AMAT CENTURA verwendet einen innovativen Gasinjektor, den sogenannten A-Plume, der aus einer Reihe konzentrischer Hohlrohre besteht, die entlang der Länge der Prozesskammer verlaufen. Durch diese Rohre und in die Bearbeitungskammer werden Reaktivgase über eine Reihe von sorgfältig gestalteten Leitblechen eingespritzt. Das A-Plume-Werkzeug sorgt für eine verbesserte Gleichmäßigkeit des Prozessflusses und höhere Abscheideraten. Die Prozesskammer ist das Gehäuse, in dem der Abscheidevorgang stattfindet. ANGEWANDTE MATERIALIEN CENTURA verwendet einen doppelklappbaren, abhebenden Deckel, der bei Bedarf Zugang zum Suszeptor bietet. Die Kammer ist mit einem dreistufigen Pumpmittel ausgelegt, das sowohl eine Spiral- als auch eine Turbomolekularpumpe verwendet. Dies ermöglicht einen hohen Vakuumgrad in relativ kurzer Zeit. CENTURA Serie von CVD-Reaktoren ist ein leistungsfähiges Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Die einzigartigen Funktionen der Plattform bieten zuverlässige und wiederholbare Prozesskontrolle und überlegene Leistung. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist in der Lage, eine präzise Steuerbarkeit sowohl über die räumlichen als auch über die Temperaturabscheidungseigenschaften des CVD-Prozesses zu erreichen. Dies führt sowohl zu einer hohen Ausbeute als auch zu einer geringen Fehlerdichte bei jeder Folienart.