Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9072602 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist ein spezialisierter CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der eine Dünnschichtabscheidung von kristallinem Silizium für den Halbleiter-, Photovoltaik- und Display-Markt ermöglicht. AMAT CENTURA wurde entwickelt, um dünne, konforme Schichten aus Silizium bei hoher Temperatur abzuscheiden und eine kristalline Siliziumschicht mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit zu erzeugen. Dieses Halbleiterherstellungsverfahren dient zur Herstellung von Merkmalen wie Gattern, Leiterbahnen, Transistoren und anderen Schaltungsanordnungen auf Siliziumscheiben. Angewandte Materialien CENTURA Reaktor ist in der Lage, sehr hohe Temperaturen zwischen 350 - 1.000 ° C mit Hochvakuumniveaus für die Abscheidung von Geräten mit hoher Gleichmäßigkeit und Zuverlässigkeit zu erreichen. CENTURA ist eine Art Niederdruck-CVD (LPCVD) -Werkzeug, das eine gängige Methode zur Abscheidung von Silizium ist. Dieser LPCVD-Reaktor arbeitet, indem siliciumhaltige Vorläufer (wie Silan, Dichlorsilan oder Trichlorsilan) und andere Reaktanden in eine beheizte Kammer geliefert werden. Innerhalb des Reaktors brechen die Reaktanten ab und rekombinieren sich unter Verwendung thermischer Energie zu einer Siliziumdioxid- oder Siliziumnitrid-Filmschicht. Die im Reaktor erzielten Temperaturen und Drücke ermöglichen die Bildung hochwertiger, kristallisierter Siliziumfolien mit ultradünnen Dicken von weniger als 10 Nanometern. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist in der Lage, lokale Gleichmäßigkeiten von innerhalb von 0,3 Mikron auf 200 mm Wafersubstraten und ausgezeichnete Gleichmäßigkeit über das Substrat zu erreichen. Diese hohe Gleichmäßigkeit hilft, Drähte und andere Merkmale mit hohen Geräteausbeuten herzustellen. Darüber hinaus verfügt AMAT CENTURA über einen sehr hohen Durchsatz, der eine schnelle Abscheidung großer Schichtmengen für Solarzellen, Transistoren und andere Halbleiterbauelemente ermöglicht. Ein weiteres wichtiges Merkmal von APPLIED MATERIALS CENTURA sind die extrem niedrigen Partikel und Partikel. Der Reaktor misst Partikel bis auf eine Größe von 0,3 µm, wodurch die Partikelmenge im Abscheidungsprozess deutlich reduziert wird und hohe Ausbeuten an zuverlässigen Geräten mit minimalen Defekten ermöglicht werden. Die geringe Partikelrate von CENTURA trägt auch dazu bei, die Lebensdauer des Produkts zu gewährleisten. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA bietet einen effizienten, einheitlichen und hochzuverlässigen Herstellungsprozess für die Bereitstellung von einschichtiger und mehrschichtiger Abscheidung. Dieses branchenführende CVD-Tool hat es Herstellern in der Halbleiterindustrie ermöglicht, die hohe Präzision und wiederholbare Leistung zu erreichen, die für die heutigen schrumpfenden Geometrien und Gerätegrößen erforderlich ist.